[发明专利]相位调节结构及其制作方法、驱动方法、全息显示装置有效
申请号: | 201810954010.7 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109116551B | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 邱鑫茂;周敏;王进;李宗祥;廖加敏;吴振钿;刘祖文 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06;G03H1/22 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相位 调节 结构 及其 制作方法 驱动 方法 全息 显示装置 | ||
1.一种相位调节结构,其特征在于,包括:
相对设置的第一基板和第二基板;
设置在所述第一基板和所述第二基板之间的多个相位调节腔室,所述相位调节腔室中设置有具有第一折射率的液滴和具有第二折射率的填充介质,所述第一折射率与所述第二折射率不同;
设置在所述第一基板或所述第二基板上的遮挡部,用于限定出与所述多个相位调节腔室一一对应的出光口;
设置在所述第一基板和所述第二基板之间的驱动单元,所述驱动单元能够调节每个所述相位调节腔室内的液滴的形状;
所述相位调节腔室中的液滴在沿垂直于所述第一基板和所述第二基板方向上最厚的部分在所述第一基板上的正投影,与对应的所述出光口在所述第一基板上的正投影至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的相位调节结构,其特征在于,所述相位调节结构还包括位于所述第一基板和所述第二基板之间的多个挡墙,所述多个挡墙限定出所述多个相位调节腔室,所述挡墙在沿垂直于所述第一基板和所述第二基板方向上的高度,大于所述液滴在沿垂直于所述第一基板和所述第二基板方向上的最大厚度。
3.根据权利要求1所述的相位调节结构,其特征在于,所述液滴采用疏水性材料,所述填充介质采用亲水性材料;
或者,所述液滴采用亲水性材料,所述填充介质采用疏水性材料。
4.根据权利要求1所述的相位调节结构,其特征在于,所述驱动单元包括:
多个独立的驱动电极,多个所述驱动电极与所述多个相位调节腔室一一对应;
薄膜晶体管阵列,所述薄膜晶体管阵列包括的多个漏极与多个所述驱动电极一一对应连接,所述薄膜晶体管阵列用于向多个所述驱动电极施加电信号。
5.根据权利要求4所述的相位调节结构,其特征在于,所述相位调节结构还包括:覆盖所述驱动电极的疏水层,所述液滴位于所述疏水层背向所述驱动电极的一侧。
6.一种全息显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~5中任一项所述的相位调节结构,所述全息显示装置还包括显示面板,所述显示面板包括与所述相位调节结构中的多个相位调节腔室一一对应的多个子像素单元,所述相位调节腔室能够对与其对应的所述子像素单元发出的光进行相位调节。
7.一种相位调节结构的制作方法,其特征在于,用于制作如权利要求1~5中任一项所述的相位调节结构,所述制作方法包括:
在第一基板或第二基板上制作遮挡部,所述遮挡部用于限定出多个出光口;
在所述第一基板和所述第二基板之间形成驱动单元和与所述多个出光口一一对应的多个相位调节腔室;
在各相位调节腔室中形成具有第一折射率的液滴和具有第二折射率的填充介质,所述第一折射率与所述第二折射率不同;所述驱动单元能够调节每个所述相位调节腔室内的液滴的形状;
所述相位调节腔室中的液滴在沿垂直于所述第一基板和所述第二基板方向上最厚的部分在所述第一基板上的正投影,与对应的所述出光口在所述第一基板上的正投影至少部分重叠。
8.根据权利要求7所述的相位调节结构的制作方法,其特征在于,所述在所述第一基板和所述第二基板之间形成驱动单元的步骤具体包括:
在所述第一基板上形成薄膜晶体管阵列和与所述薄膜晶体管阵列包括的多个漏极一一对应连接的多个独立的驱动电极,多个所述驱动电极与所述相位调节腔室一一对应;
在所述第一基板和所述第二基板之间形成多个相位调节腔室的步骤具体包括:
在所述第一基板上形成多个挡墙,所述挡墙限定出所述多个相位调节腔室,所述挡墙在沿垂直于所述第一基板方向上的高度,大于所述液滴在该沿垂直于所述第一基板和所述第二基板方向上的最大厚度。
9.一种相位调节方法,其特征在于,应用于如权利要求1~5中任一项所述的相位调节结构,所述相位调节方法包括:
驱动单元通过调节相位调节腔室中的液滴的形状,改变经过所述相位调节腔室中的出光口出射的光的相位。
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