[发明专利]显示背板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示背板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的透明热传导层以及设置在所述热传导层上的阵列结构层；所述阵列结构层包括遮光层、第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管，所述遮光层设置在所述透明热传导层与第一薄膜晶体管之间，所述透明热传导层与第二薄膜晶体管之间没有遮光层；所述透明热传导层包括透明导电层、透明半导体层和第一缓冲层，所述透明导电层和透明半导体层的厚度为所述透明导电层用于在后续制备阵列结构层和发光结构层的高温工艺过程中保持均匀的温度，向所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管施加均衡的热效应；所述透明半导体层用于在显示装置工作时，吸收或滤除环境光中能量高的离子，增加光照稳定性，消除光照对所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管电学特性的影响；所述第一缓冲层用于减小向所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管施加的热应力。

2.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，所述透明导电层的材料包括氧化铟锡或氧化铟锌，所述透明半导体层的材料包括金属氧化物或硅材料，所述金属氧化物包括氧化铟镓锌或氧化铟锡锌。

3.根据权利要求1所述的显示背板，其特征在于，所述阵列结构层包括：

形成在所述透明热传导层上的遮光层；

覆盖所述遮光层的第二缓冲层；形成在所述第二缓冲层上的第一有源层和第二有源层，所述第一有源层的位置与遮光层的位置相对应；

形成在所述第一有源层上的第一栅绝缘层和第一栅电极，形成在所述第二有源层上的第二栅绝缘层和第二栅电极；

覆盖所述第一栅电极和第二栅电极的层间绝缘层；

形成在所述层间绝缘层上的第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极，所述第一源电极和第一漏电极分别通过层间绝缘层上开设的过孔与第一有源层连接，所述第二源电极和第二漏电极分别通过层间绝缘层上开设的过孔与第二有源层连接；

覆盖所述第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极的钝化层。

4.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～3任一所述的显示背板。

5.一种显示背板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成透明热传导层，包括：在基底上形成透明导电层、透明半导体层和第一缓冲层，所述透明导电层和透明半导体层的厚度为

在所述透明热传导层上形成阵列结构层，所述阵列结构层包括遮光层、第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管，所述遮光层形成在所述透明热传导层与第一薄膜晶体管之间，所述透明热传导层与第二薄膜晶体管之间没有遮光层；所述透明导电层用于在后续制备阵列结构层和发光结构层的高温工艺过程中保持均匀的温度，向第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管施加均衡的热效应；所述透明半导体层用于在显示装置工作时，吸收或滤除环境光中能量高的离子，增加光照稳定性，消除光照对所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管电学特性的影响；所述第一缓冲层用于减小向所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管施加的热应力。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述透明导电层的材料包括氧化铟锡或氧化铟锌，所述透明半导体层的材料包括金属氧化物或硅材料，所述金属氧化物包括氧化铟镓锌或氧化铟锡锌。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在所述透明热传导层上形成阵列结构层，包括：

在基底上形成透明热传导层时，形成所述遮光层；

依次沉积第二缓冲层和有源层薄膜，通过构图工艺在所述第二缓冲层上形成第一有源层和第二有源层，所述第一有源层的位置与遮光层的位置相对应；

依次沉积栅绝缘薄膜和栅金属薄膜，通过构图工艺在所述第一有源层上形成第一栅绝缘层和第一栅电极，在所述第二有源层上形成第二栅绝缘层和第二栅电极；

对第一有源层未被第一栅电极遮挡的区域进行离子掺杂，对第二有源层未被第二栅电极遮挡的区域进行离子掺杂，形成第一有源层和第二有源层的掺杂区；

沉积层间绝缘薄膜，通过构图工艺形成过孔，所述过孔分别位于所述第一有源层的掺杂区和第二有源层的掺杂区；

沉积源漏金属薄膜，通过构图工艺形成第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极，所述第一源电极和第一漏电极分别通过所述过孔与第一有源层的掺杂区连接，所述第二源电极和第二漏电极分别通过所述过孔与第二有源层的掺杂区连接；

形成覆盖所述第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极的钝化层。