[发明专利]一种可快速褪色的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料在审
| 申请号： | 201810954724.8 | 申请日： | 2018-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN109097733A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 包山虎;金平实;张启轩;李荣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氢化钇 含氧 多层薄膜材料 电热层 光热 变色 褪色 保护层 调光层 功能层 氧化钨 缺氧 | ||
1.一种可快速褪色的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，包括FTO电热层、以及依次形成在所述FTO电热层上的含氧氢化钇调光层、缺氧态氧化钨功能层和保护层。
2.根据权利要求1所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述FTO电热层的厚度为50nm～1000nm，优选为100～200nm。
3.根据权利要求1或2所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述含氧氢化钇调光层的组成为YHxOy，1＜x＜4，1＜y＜10。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述含氧氢化钇调光层的厚度为50 nm～1000 nm，优选为350nm～1000nm。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述缺氧态氧化钨功能层的组成WOz，2＜z＜3，优选为2.5＜z＜3，更优选为2.65＜z＜2.85。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述缺氧态氧化钨功能层的厚度为50 nm～500 nm。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，所述保护层的组成为MOa，0＜a＜4，其中M为Y、Al、Zn、Si中的至少一种；优选地，所述保护层中还掺杂有N元素，其化学式为MbNcOd、0＜b≤1，0＜c≤1，0＜d≤1；更优选地，所述保护层的厚度为30nm～500nm，优选为100nm～500nm。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料，其特征在于，还包括连接在所述FTO电热层两端的电源。
9.一种如权利要求1-8中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料的制备方法，其特征在于，采用直流磁控溅射技术或交流磁控溅射技术依次在FTO电热层表面制备含氧氢化钇调光层、缺氧态氧化钨功能层。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述含氧氢化钇调光层的靶材为金属钇或氢化钇，所述缺氧态氧化钨功能层的靶材为氧化钨或金属钨。
11.一种如权利要求1-8中任一项所述的含氧氢化钇光热致变色多层薄膜材料在建筑节能领域、航空航天领域、汽车领域、光学器件领域和电子器件领域中的应用。
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