[发明专利]一种NiCrAlYSc涂层及其制备工艺

权利要求书

1.一种NiCrAlYSc涂层的制备工艺，其特征在于：该工艺首先通过电弧离子镀技术在高温合金基体上沉积NiCrAlYSc涂层；然后进行真空热处理，使NiCrAlYSc涂层向基体进行互扩散，从而在基体上形成结合力良好的NiCrAlYSc涂层；该工艺具体包括如下步骤：

（1）对基体进行预处理；

（2）对基体进行预溅射轰击清洗，2~5分钟；

（3）沉积NiCrAlYSc涂层；

（4）将沉积完涂层的试样进行真空热处理；

步骤（3）中，对基体进行预溅射轰击清洗后沉积NiCrAlYSc涂层，沉积过程中：靶基距为200~250mm，弧电压为20~25V，弧电流为70~90A，脉冲偏压为-150~-300V，占空比为20%~40%，沉积温度为100~300℃，沉积时间为150~500min，涂层厚度为40~60μm；

步骤（3）沉积NiCrAlYSc涂层时使用NiCrAlYSc靶材，按重量百分比计，靶材化学成分为：Cr为16%~28%，Al为5%~12%，Y为0.1%~1%，Sc为0.1%~5%，Ni为余量；

步骤（4）中，将步骤（3）沉积的NiCrAlYSc涂层进行真空热处理即真空扩散退火，真空扩散退火时，温度为900~1000℃，保温时间为3~5h，升温速率≤7℃/min，保温结束后随炉冷却至室温。

2.根据权利要求1所述的NiCrAlYSc涂层的制备工艺，其特征在于：所述预处理的过程为：首先将基材试样打磨至表面粗糙度Ra=0.4μm，之后采用60~220目玻璃丸进行湿喷砂处理，最后分别依次用金属洗涤剂、去离子水和丙酮超声清洗15~30min，用酒精漂洗后烘干。

3.根据权利要求1所述的NiCrAlYSc涂层的制备工艺，其特征在于：步骤（2）中，所述预溅射轰击清洗的过程为：合金基体装炉后，首先将真空室抽真空至2×10^-3~1×10^-2Pa，通入Ar气，使真空室内压强升至5×10^-2~3×10^-1Pa，然后对样品进行预溅射轰击清洗，清洗过程中：靶基距为200~250mm，脉冲偏压为-400~-600V，占空比为20%~40%，清洗时间为2~5min。

4.一种利用权利要求1所述工艺制备的NiCrAlYSc涂层。