[发明专利]一种投影仪曝光时间确定方法及装置

说明书

本发明实施例提供了一种投影仪曝光时间确定方法及装置，方法包括：投影仪依次按照所设定的每个曝光时间投射结构光，获取所投射结构光对应的多张光栅图像，确定光栅图像中的亮度参数，根据亮度参数，在所设定的曝光时间中确定最优曝光时间；可见，利用本方案可以自动确定出投影仪的最优曝光时间。

技术领域

本发明涉及三维测量技术领域，特别是涉及一种投影仪曝光时间确定方法及装置。

背景技术

利用结构光进行三维测量的方案一般包括：投影仪投射结构光，结构光照射到待测量物体上形成投影光栅；相机对该投影光栅进行采集，得到光栅图像；计算机根据该光栅图像，计算待测量物体的测量数据。

不同材质表面的反射率不同，如果待测量物体表面的反射率较大，则对应的投影仪曝光时间应该小一些，如果待测量物体表面的反射率较小，则对应的投影仪曝光时间应该大一些。现有方案中，大多是根据人工经验确定投影仪的曝光时间。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种投影仪曝光时间确定方法及装置，以实现自动确定投影仪的曝光时间。

为达到上述目的，本发明实施例提供了一种投影仪曝光时间确定方法，包括：

获取多张光栅图像，所述光栅图像为：投影仪依次按照所设定的各曝光时间投射的结构光对应的图像；

确定所述多张光栅图像中的亮度参数，所述亮度参数为表示亮度分布范围的参数；

根据所确定的亮度参数，在所设定的曝光时间中确定最优曝光时间。

可选的，所述确定所述多张光栅图像中的亮度参数，包括：

针对每张光栅图像，确定该张光栅图像亮度值与其对应的结构光亮度值的斜率，作为亮度参数；

所述根据所确定的亮度参数，在所设定的曝光时间中确定最优曝光时间，包括：在所设定的曝光时间中，确定所述斜率的拐点对应的曝光时间，作为最优曝光时间。

可选的，所述确定所述多张光栅图像中的亮度参数，包括：

根据所设定的初始曝光时间对应的光栅图像，计算所述初始曝光时间对应的结构光的有效亮度范围，作为亮度参数；

所述根据所确定的亮度参数，在所设定的曝光时间中确定最优曝光时间，包括：

判断所述初始曝光时间对应的结构光的有效亮度范围的最大值是否大于预设阈值；

如果不大于，则在所设定的、不大于所述初始曝光时间的曝光时间中，确定最优曝光时间。

可选的，所述在所设定的、不大于所述初始曝光时间的曝光时间中，确定最优曝光时间，包括：

针对所设定的、小于所述初始曝光时间的每个曝光时间，根据该曝光时间对应的光栅图像，计算该曝光时间对应的结构光的有效亮度范围；

在计算得到的有效亮度范围中，将最大值大于所述预设阈值的有效亮度范围对应的曝光时间确定为候选曝光时间；

在所设定的、大于所述候选曝光时间、小于所述初始曝光时间的曝光时间中，确定最优曝光时间；

在判定所述初始曝光时间对应的结构光的有效亮度范围的最大值大于预设阈值的情况下，还包括：

在所设定的、大于所述初始曝光时间中，确定最优曝光时间。

可选的，在所设定的、不大于所述初始曝光时间的曝光时间中，确定最优曝光时间，包括：

将所述初始曝光时间确定为最优曝光时间；

在判定所述初始曝光时间对应的结构光的有效亮度范围的最大值大于预设阈值的情况下，还包括：