[发明专利]精细金属掩模及其制法

权利要求书

1.一种精细金属掩模，其特征在于，包括一中央图案部以及一强化外框；该中央图案部具有一掩模图案，该强化外框连接于该中央图案部的一外缘，该强化外框的厚度大于该中央图案部的厚度，且该精细金属掩模是以电铸工艺制成。

2.如权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，该中央图案部更包括一第一电铸层的一第一中央部，该掩模图案形成于该第一中央部上，且该强化外框更包括该第一电铸层的一第一周缘部及一第二电铸层，该第一周缘部邻接于该第一中央部，该第二电铸层迭设于该第一周缘部上，该第二电铸层与该第一中央部之间形成一贯孔，该贯孔连通该掩模图案。

3.如权利要求2所述的精细金属掩模，其特征在于，该强化外框更包括一第三电铸层，该第二电铸层更包括一第二中央部及一第二周缘部，该第二周缘部邻接于该第二中央部，该第三电铸层迭设于该第二周缘部上，该第三电铸层与该第二中央部之间形成一透孔，该透孔连通该贯孔。

4.如权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，该精细金属掩模的材料是选自于下列构成的群组：铁、钴、镍及上述至少两者的合金。

5.一种精细金属掩模的制法，其特征在于，包括：

溅镀形成一金属层于一玻璃基板上；以及

电铸形成一中央图案部及一强化外框于该金属层上，并移除该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模；

其中，该强化外框连接于该中央图案部的一外缘，该中央图案部具有一掩模图案，该强化外框的厚度大于该中央图案部的厚度，且该精细金属掩模包括该中央图案部及该强化外框。

6.如权利要求5所述的精细金属掩模的制法，其特征在于，所述电铸形成该中央图案部及该强化外框于该金属层上，并移除该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模的步骤，更包括：

形成一第一图案化光阻层于该金属层上，其中，该第一图案化光阻层暴露出该金属层的一第一预定电铸表面；

电铸形成一第一电铸层于该第一预定电铸表面上，其中，该第一电铸层具有一第一中央部及一邻接于第一中央部的第一周缘部，该第一中央部与该第一图案化光阻层连接，该第一周缘部具有一第二预定电铸表面；

形成一第二图案化光阻层于该第一中央部及该第一图案化光阻层上，其中，该第二图案化光阻层暴露出该第二预定电铸表面；

电铸形成一第二电铸层于该第二预定电铸表面上；以及

移除该第一图案化光阻层、该第二图案化光阻层、该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模；

其中，该第一图案化光阻层移除后形成该掩模图案于该第一中央部上，该第二图案化光阻层移除后形成一贯孔于该第二电铸层与该第一中央部之间，该贯孔连通该掩模图案，该中央图案部更包括该第一电铸层的该第一中央部，且该强化外框更包括该第一电铸层的该第一周缘部及该第二电铸层。

7.如权利要求6所述的精细金属掩模的制法，其特征在于，该第二电铸层更具有一第二中央部及一邻接于第二中央部的第二周缘部，该第二中央部与该第二图案化光阻层连接，该第二周缘部具有一第三预定电铸表面；

所述电铸形成一中央图案部及一强化外框于该金属层上，并移除该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模的步骤，更包括：形成一暴露出该第三预定电铸表面的第三图案化光阻层于该第二中央部及该第二图案化光阻层上；以及，电铸形成一第三电铸层于该第三预定电铸表面上；以及

所述移除该第一图案化光阻层、该第二图案化光阻层、该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模的步骤，更包括：移除该第一图案化光阻层、该第二图案化光阻层、该第三图案化光阻层、该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模，其中，该第三图案化光阻层移除后形成一透孔于该第三电铸层与该第二中央部之间，该透孔与该贯孔连通，该强化外框更包括该第三电铸层。