[发明专利]等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置及方法在审
申请号: | 201810960123.8 | 申请日: | 2018-08-22 |
公开(公告)号: | CN109264671A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 高远;邵涛;王晓玲;张帅;孙昊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | C01B3/38 | 分类号: | C01B3/38 |
代理公司: | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人: | 王程远;胡玉章 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体喷涂 催化甲烷 协同 薄膜 等离子体 重整装置 触发盒 电极杆 大气压等离子体喷涂 脉冲发生装置 能量利用效率 气体产生装置 质量流量控制 光催化薄膜 聚四氟乙烯 离子体喷涂 气体转化率 结合介质 脉冲电源 重整甲烷 阻挡放电 反应器 光催化 合成气 均流器 石英管 喷涂 产率 气瓶 铜网 重整 制备 | ||
1.一种等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,包括:
脉冲发生装置,其由触发盒(1)以及与所述触发盒(1)连接的脉冲电源(2)组成,所述脉冲电源(2)上设有高压连接线(3)和接地的低压连接线(11);
DBD反应器(14),其由电极杆(9)、DBD石英管(16)、铜网(17)和聚四氟乙烯固件(18)组成,所述电极杆(9)内置在所述DBD石英管(16)内并放置在绝缘支架(10)上,所述电极杆(9)接至所述高压连接线(3),所述电极杆(9)上附有等离子体喷涂源(4)喷涂的TiO2薄膜,所述DBD石英管(16)两端用所述聚四氟乙烯固件(18)固定密封,所述铜网(17)缠绕在所述DBD石英管(16)外且接地(15);
气体产生装置,其由两个气瓶(7)、两个质量流量控制计(6)、静置均流器(13)和气路A(20)组成,所述两个气瓶(7)分别连接至所述两个质量流量控制计(6),所述两个质量流量控制计(6)输出的两路气体接至所述静置均流器(13)进行混合,所述静置均流器(13)输出的混合气体通过所述气路A(20)接至所述DBD石英管(16)。
2.根据权利要求1所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述等离子体喷涂源(4)的高压电极接至所述高压连接线(3),所述等离子体喷涂源(4)的低压电极接至所述低压连接线(11),所述两个气瓶(7)分别连接至所述两个质量流量控制计(6),一个质量流量控制计(6)输出的一路气体通过气路B(5)作为激发气体接至所述等离子体喷涂源(4)气体入口,另一个质量流量控制计(6)输出的一路气体接入装有前驱物TEOS+HAuCl4的鼓气瓶(12)后作为载气接至所述等离子体喷涂源(4)气体入口;
所述等离子体喷涂源(4)放电产生大气压等离子体,并将前驱物TEOS+HAuCl4喷涂在所述电极杆(9)上形成TiO2薄膜。
3.根据权利要求2所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述等离子体喷涂源(4)为DBD等离子体、射流等离子体、滑动弧等离子体或螺旋波等离子体中的一种。
4.根据权利要求1所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述脉冲电源(2)为高压纳秒脉冲电源或微秒脉冲电源或高频高压交流电源,所述脉冲电源(2)的电压幅值为13kV,频率为3~10kHz;
所述两个气瓶(7)内分别为甲烷和二氧化碳,两路气体的流速为20~50sccm。
5.根据权利要求2所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述脉冲电源(2)为高压纳秒脉冲电源或微秒脉冲电源或高频高压交流电源,所述脉冲电源(2)的电压幅值为5~10kV,频率为1~10kHz。
6.根据权利要求2所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述两个气瓶(7)内为氩气、氮气或者氦气,激发气体的流量为1~5slm,载气的流量为20~100sccm。
7.根据权利要求1所述的等离子体喷涂薄膜协同DBD催化甲烷干重整装置,其特征在于,所述电极杆(9)由不锈钢制成,直径为17.6mm,长度为200mm;
所述DBD石英管(16)外径为25.1mm,内径为22.1mm,长度为200mm;
所述铜网(17)长度为100mm。
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