[发明专利]气体处理装置、工作方法及其清洗方法

说明书

一种气体处理装置、工作方法及其清洗方法，其中，气体处理装置包括：腔室，所述腔室具有进气口，所述进气口用于向腔室内输入第一气体；与所述腔室连通的第一进液管，所述第一进液管用于向腔室内输入第一处理液，所述第一处理液用于对第一气体进行气体处理形成第二处理液；与所述腔室底部连通的第一蓄液槽，且所述第一蓄液槽与腔室之间可拆卸连接，所述第一蓄液槽用于承装第二处理液；与所述第一蓄液槽连通的第二蓄液槽，所述第二蓄液槽与第一蓄液槽之间可拆卸连接，所述第二蓄液槽内具有传感器。利用所述气体处理装置对第一气体进行处理后，对第一蓄液槽的清洗较方便，且无需重新安装调试传感器。

技术领域

本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种气体处理装置、工作方法及其清洗方法。

背景技术

在半导体制造过程中，通常会产生大量的气体，所述气体在排至大气中之前，通常利用水对气体进行处理。在气体处理过程中，由于气体的温度较高，易使水的温度升高，水的温度升高，易使水中的水垢析出。

然而，利用现有气体处理装置对气体进行处理所产生水垢的清洗难度较高。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种气体处理装置、工作方法及其清洗方法，以降低水垢的清洗难度。

为解决上述技术问题，本发明提供一种气体处理装置，包括：腔室，所述腔室具有进气口，所述进气口用于向腔室内输入第一气体；与所述腔室连通的第一进液管，所述第一进液管用于向腔室内输入第一处理液，所述第一处理液用于对第一气体进行气体处理形成第二处理液；与所述腔室底部连通的第一蓄液槽，且所述第一蓄液槽与腔室之间可拆卸连接，所述第一蓄液槽用于承装第二处理液；与所述第一蓄液槽连通的第二蓄液槽，所述第二蓄液槽与第一蓄液槽之间可拆卸连接，所述第二蓄液槽内具有传感器。

可选的，所述第一蓄液槽与腔室底部通过第一连接部可拆卸连接；所述第一连接部包括：法兰或螺纹；所述第二蓄液槽与第一蓄液槽之间通过第二连接部可拆卸连接；所述第二连接部包括：法兰或螺纹。

可选的，所述传感器包括：温度传感器、液位传感器和漏液传感器中的一种或者多种组合。

可选的，还包括：温控装置，所述温控装置用于控制第二处理液的温度，使第二处理液的温度在预设范围内；所述温控装置包括检测单元，用于检测第二处理液的温度，获取温度信号；判断单元，用于判断所述温度信号是否在预设范围内；当所述温度信号高于所述预设范围时，发送降温信号；所述降温装置，用于在获取所述降温信号之后，对第二处理液进行降温；当所述温度信号低于预设范围时，发送升温信号；升温装置，用于在获取所述升温信号后，对第二处理液进行加热。

可选的，还包括：第三蓄液槽，用于承载所述温控装置，且所述第三蓄液槽与第一蓄液槽之间通过第三连接部可拆卸连接；所述第三连接部包括：法兰或螺纹。

可选的，还包括：连通第二蓄液槽和腔室的第二进液管，所述第二进液管之间设置有泵，所述泵用于驱动第二处理液向腔室内输送。

可选的，还包括：与第二蓄液槽连通的第三进液管，所述第三进液管用于向第二蓄液槽内输入第三处理液，所述第三处理液的温度小于第二处理液的温度。

相应的，本发明还提供一种气体处理装置的工作方法包括：提供第一气体；提供上述气体处理装置；使第一气体通过进气口进入腔室内，所述第一气体经第一处理液处理后形成第二处理液，所述第二处理液存储在第一蓄液槽内。

可选的，还包括温控装置，所述温控装置用于控制第二处理液的温度，使第二处理液的温度在预设范围内；所述温控装置中升温装置使第二处理液升温的范围为100摄氏度～300摄氏度；所述温控装置中降温装置使第二处理液降温的范围为：1摄氏度～30摄氏度；所述预设温度的范围为：50摄氏度～100摄氏度。