[发明专利]显示基板及其制造方法、显示面板

权利要求书

1.一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其特征在于，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形包括沿厚度方向依次设置的保护金属图形和主体金属图形，所述主体金属图形位于所述保护图形和所述保护金属图形之间，制成所述保护金属图形的材料包括钛、钼钛合金和钼铌合金中任意一种或任意几种，制成所述主体金属图形的材料包括铜和/或铝。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形包括源极、漏极和数据线，所述保护图形包括源极保护块、漏极保护块和数据线保护块，所述源极保护块覆盖所述源极，且所述源极保护块的形状与所述源极的形状一致，所述漏极保护块覆盖所述漏极，且所述漏极保护块的形状与所述漏极的形状一致，所述数据线保护块覆盖所述数据线，且所述数据线保护块的形状与所述数据线的形状一致。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管都包括有源层、所述源极和所述漏极，在同一个薄膜晶体管中，所述源极覆盖所述有源层的一部分，所述漏极覆盖所述有源层的一部分，所述有源层由氧化物制成，所述显示基板还包括由硅的氧化物制成的钝化层，所述钝化层覆盖所述保护图形和所述有源层位于所述源极和所述漏极之间的部分。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述无机非金属材料包括非晶硅和/或硅的氮化物。

6.一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其特征在于，所述显示基板为权利要求1至5中任意一项所述的显示基板。

7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

形成金属材料层；

形成保护图形，所述保护图形的形状与金属图形的形状一致，所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料；

利用刻蚀液对所述金属材料层进行刻蚀，以获得所述金属图形。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，形成保护图形的步骤包括：

形成无机非金属材料层；

形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行曝光显影，获得最终刻蚀阻挡图形，所述最终刻蚀阻挡图形的形状与所述保护图形的形状相匹配；

对所述无机非金属材料层进行刻蚀，以获得所述保护图形。

9.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述金属图形包括源极、漏极和数据线，所述保护图形包括源极保护块、漏极保护块和数据线保护块，所述源极保护块覆盖所述源极，且所述源极保护块的形状与所述源极的形状一致，所述漏极保护块覆盖所述漏极，且所述漏极保护块的形状与所述漏极的形状一致，所述数据线保护块覆盖所述数据线，且所述数据线保护块的形状与所述数据线的形状一致。

10.根据权利要求7至9中任意一项所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括在形成金属材料层之前进行的：

形成有源图形层，所述有源图形层包括多个有源层，所述有源层由氧化物制成，其中，所述源极覆盖相应的有源层的一部分，所述漏极覆盖相应的有源层的一部分；

所述制造方法还包括利用刻蚀液对所述金属材料层进行刻蚀之后进行的：

形成钝化层，所述钝化层由硅的氧化物制成，所述钝化层覆盖所述保护图形和所述有源层位于所述源极和所述漏极之间的部分。