[发明专利]一种高岭土及其改性方法、聚酯薄膜

说明书

本发明属于材料改性技术领域，具体涉及一种高岭土及其改性方法，以及使用该改性处理的高岭土的聚酯薄膜；所述的改性方法包括：(1)将高岭土加入到酸性溶液中浸泡，过滤，水洗得到活化高岭土，然后加入2倍量的浸润剂，超声分散，得到混合物I；(2)将乳化剂分散到水中，加热溶解，加入不饱和聚酯树脂，得到乳状液，将乳状液加入到混合物I中，超声分散，过滤，干燥，得到改性处理的高岭土；本发明通过对高岭土进行改性处理，提高了高岭土与聚酯树脂之间的结合力，将该改性处理后的高岭土填充到聚酯树脂中，减少了在双向拉伸成型过程中，高岭土周围出现的空隙结构的数量，避免了对透过聚酯薄膜光线的影响，提高了聚酯薄膜的透光率。

技术领域

本发明属于材料改性技术领域，具体涉及一种高岭土及其改性方法，以及使用该改性处理的高岭土的聚酯薄膜。

背景技术

现有技术中，利用二氧化硅、磷酸钙、高岭土等无机粒子添加到聚酯薄膜的表层中，通过无机粒子凸伸出聚酯薄膜的表面，以起到薄膜收放卷时的抗粘连作用。具体的做法是，先将无机粒子添加到聚酯原料中做成母料切片，然后通过母料添加的方式将无机粒子添加到整个薄膜(单层挤出)或薄膜表层(ABA三层共挤中的A层)中。无机粒子的添加虽然解决了薄膜表面的抗粘连问题，但不可避免的降低了薄膜的光学性能，一方面，无机粒子阻止部分光线使得光透过率降低；另一方面，这些微粒会使部分光线偏离原来的方向使得雾度提高，虽然可以通过减少无机粒子的添加量来改善光学性能，但其效果并不理想，而且会明显降低薄膜的加工性能，按照国内的聚酯原料和绝大多数的生产线和工艺水平很难生产出高要求的光学级聚酯薄膜。

发明内容

针对现有技术中的问题，本发明的目的之一在于提供一种高岭土的改性方法，改性处理后的高岭土添加到聚酯薄膜中，降低无机粒子的添加对聚酯薄膜光学性能的影响。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案予以实现：

一种高岭土的改性方法，包括以下步骤：

(1)将高岭土加入到酸性溶液中浸泡，过滤，水洗得到活化高岭土，然后向活化高岭土中加入2倍量的浸润剂，超声分散，得到混合物I；

(2)将乳化剂分散到水中，加热使其溶解，加入不饱和聚酯树脂，采用机械搅拌的方式制备得到乳状液，将所述的乳状液加入到步骤(1)中的混合物I中，继续超声分散，接着过滤，干燥，得到改性处理的高岭土。

在进一步的技术方案中，所述的浸润剂包括硅烷偶联剂、表面活性剂和有机溶剂；

其中，硅烷偶联剂、表面活性剂和有机溶剂的质量比为1：(3.5～8.5)：(15～36)。

在进一步的技术方案中，所述浸润剂中，硅烷偶联剂、表面活性剂和有机溶剂的质量比为1：5：25。

在进一步的技术方案中，步骤(2)中，所述的乳化剂、不饱和聚酯树脂和混合物I的质量比为(1.6～2.5)：1：(4.5～7)。

在进一步的技术方案中，所述高岭土的粒径为1000～2000目。

在进一步的技术方案中，步骤(2)中，采用喷雾干燥的方式得到改性处理的高岭土，喷雾干燥的条件包括：温度为80～120℃，转速为10000～15000r/min。

本发明还提供了一种采用上述改性方法处理后得到的高岭土。

本发明还提供了一种聚酯薄膜，包括芯层及设置在芯层一侧或两侧的表层，所述的表层中添加有上述改性方法处理后得到的高岭土。

进一步的，所述表层中，高岭土的含量为0.08～0.25％，所述百分含量是质量百分数。

在进一步的技术方案中，所述芯层和表层的厚度之比为1：(0.03～0.1)；

优选的，所述芯层和表层的厚度之比为1：(0.03～0.06)。