[发明专利]一种新的真空镀膜设备的偏压系统在审

专利信息
申请号: 201810970215.4 申请日: 2018-08-24
公开(公告)号: CN110857464A 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 张心凤;尹辉;夏正卫 申请(专利权)人: 安徽纯源镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230088 安徽省合肥市高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空镀膜 设备 偏压 系统
【说明书】:

发明公开了一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘板共同构成的,所述驱动马达安置于支撑架上表面,所述齿轮驱动装置安置于驱动马达的旋转端上,所述绝缘零件安置于齿轮驱动装置内,三对所述第一固定螺栓安置于绝缘零件上,本发明涉及真空镀膜设备领域,该装置为两套独立的旋转偏压系统,提高薄膜粘附性、增加离子透过率、改善膜层均匀性和达到复杂曲面形状的镀膜的目的,使用起来更加的方便,结构相对简单。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备领域,具体为一种新的真空镀膜设备的偏压系统。

背景技术

真空镀膜是一种由物理或者化学方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术可以用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等;以及其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等,如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工硬性。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀和纯离子镀膜。

当前的真空镀膜设备,只有一路旋转型的产品偏压装置,不能改变膜层性能,薄膜粘附性不好,离子透过率不高,因此为了解决这一问题,设计一种新的真空镀膜设备的偏压系统是非常有必要的。

发明内容

针对现有技术的不足,本发明提供了一种新的真空镀膜设备的偏压系统,解决了不能改变膜层性能,薄膜粘附性不好,离子透过率不高的问题。

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘板共同构成的,所述驱动马达安置于支撑架上表面,所述齿轮驱动装置安置于驱动马达的旋转端上,所述绝缘零件安置于齿轮驱动装置内,三对所述第一固定螺栓安置于绝缘零件上,所述旋转轴插装于绝缘零件内,所述偏压引入装置套装于旋转轴上,两对所述碳刷安置于偏压引入装置上,所述固定板上开设有第一圆形开口,所述第一圆形开口处开设有环形凹槽,所述真空密封装置套装于旋转轴上,且位于真空密封装置位于环形凹槽内,一对所述轴承套装于旋转轴上,且一对所述轴承安置于环形凹槽内,所述绝缘板安置于真空密封装置上。

优选的,所述绝缘板下表面设有防滑板:该防滑板用于增加摩擦力。

优选的,所述支撑架上开设有一对固定孔:该固定孔用于固定。

优选的,所述旋转轴上设有固定卡扣:该固定卡扣用于固定。

优选的,所述旋转轴上开设有第一圆形通孔:该第一圆形通孔用于固定。

优选的,所述驱动马达通过螺栓与支撑架连接:该螺栓用于拆卸。

有益效果

本发明提供了一种新的真空镀膜设备的偏压系统。具备以下有益效果:该装置为两套独立的旋转偏压系统,提高薄膜粘附性、增加离子透过率、改善膜层均匀性和达到复杂曲面形状的镀膜的目的,使用起来更加的方便,结构相对简单。

附图说明

图1为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的结构示意图。

图2为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的主视图。

图3为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的俯视图。

图4为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的侧视图。

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