[发明专利]一种清洗剂以及清洗方法

说明书

本发明提供了一种清洗剂，以质量百分比计所述清洗剂包括如下组分：渗透剂10％‑25％、分散剂5％‑20％、碱1％‑10％、络合剂5‑20％、界面活性剂1％‑10％、缓蚀剂1％‑10％以及余量为去离子水；应用本发明的清洗剂，效果是：可对待清洗物体进行清洗且良率高，缓蚀剂可保护待清洗物体不会因为清洗剂碱性太强而受损伤。本发明还公开了一种清洗方法，具体包括清洗剂清洗、纯水喷淋清洗以及脱水烘干，使用的设备为平板清洗机可实现自动化清洗，具有清洗效率高等特点。

技术领域

本发明涉及塑料清洗技术领域，具体涉及一种清洗剂以及清洗方法。

背景技术

随着科技的发展，曝光显影工艺已经广泛应用于电子产品上，在曝光显影工艺中需要利用治具来解决曝光显影过曝、异色点、脏污等问题，该治具为塑料材质；曝光显影后会在塑料治具上留下油墨，因此需要对塑料治具进行清洗以保证产品的质量；而中性清洗剂无法洗掉塑料治具曝光显影后留下的油墨，因此需要使用碱性清洗剂。现有的碱性清洗剂配方为：碳酸钠25％-30％，EDTA二钠3％-5％，OP-103％-6％，二乙二醇乙醚8％-15％以及余量为水。使用该配方调制的碱性清洗剂pH值为12-13，该清洗剂会使塑料治具被腐蚀变软且治具清洗的良率低下，导致治具损伤和增加经济成本。

综上所述，急需一种既能将塑料治具清洗干净又不损伤治具的清洗剂以解决现有技术中存在的问题。

发明内容

本发明目的在于提供一种洗剂以及清洗方法，具体技术方案如下：

一种清洗剂，以质量百分比计所述清洗剂包括如下组分：渗透剂10％-25％、分散剂 5％-20％、碱1％-10％、络合剂5-20％、界面活性剂1％-10％、缓蚀剂1％-10％以及余量为去离子水。

以上技术方案中优选的，所述渗透剂为聚天冬氨酸钠；所述分散剂为硼砂；所述碱为氢氧化钾；所述络合剂为柠檬酸钠；所述界面活性剂为十二烷基硫酸钠；所述缓蚀剂为甘油。

以上技术方案中优选的，以质量百分比计所述清洗剂包括如下组分：所述聚天冬氨酸钠占比为12％-23％、所述硼砂占比为8％-18％、所述氢氧化钾占比为2％-8％、所述柠檬酸钠占比8％-18％、所述十二烷基硫酸钠占比2％-8％、所述甘油占比为1％-7％以及余量为去离子水。

优选的，以质量百分比计所述清洗剂包括如下组分：所述聚天冬氨酸钠占比为15％-20％、所述硼砂占比为10％-15％、所述氢氧化钾占比为2％-4％、所述柠檬酸钠占比10％-15％、所述十二烷基硫酸钠占比2％-4％、所述甘油占比为1％-3％以及余量为去离子水。

以上技术方案中优选的，以质量百分比计所述清洗剂包括如下组分：所述聚天冬氨酸钠占比为20％、所述硼砂占比为15％、所述氢氧化钾占比为3％、所述柠檬酸钠占比为15％、所述十二烷基硫酸钠占比为3％、所述甘油占比为2％以及余量为去离子水。

以上技术方案中优选的，所述清洗剂的pH值为11-12。

应用本发明的清洗剂，具有以下有益效果：

(1)本发明的清洗剂利用聚天冬氨酸钠作为渗透剂对待清洗物体(具体是曝光显影后的塑料治具)上的油墨起渗透作用，氢氧化钾用于对待清洗物体上的油墨进行渗透和乳化，对聚天冬氨酸钠起辅助作用；利用硼砂作为分散剂与十二烷基硫酸钠作为界面活性剂；使用本发明的清洗剂可有效的对待清洗物体进行清洁。

(2)本发明的清洗剂的pH值为11-12属于中强碱，同时本发明的清洗剂中还包括用于保护待清洗物体不被腐蚀的缓蚀剂；因此使用本发明的清洗剂进行清洗不会因为清洗剂碱性太强而导致待清洗物体被腐蚀软化(由于有缓蚀剂对塑料治具起保护作用，可有效防止塑料治具被腐蚀)，既可以有效清洗待清洗物体又可以防止待清洗物体被腐蚀软化。

(3)使用本发明的清洗剂对待清洗物体进行清洗良率可达90％以上。