[发明专利]光学元件高反射率测量系统和测量方法

权利要求书

1.一种光学元件高反射率的测量系统，包括激光光源(1)、光电探测器(5)、示波器(6)、信号发生器(7)，其特征在于还有第一光纤(9)、光纤隔离器(10)、第二光纤(11)、第三光纤(12)、第一光纤耦合器(13)、第四光纤(14)、样品台(15)、第一姿态调节机构(16)、第二姿态调节机构(17)、第五光纤(18)、第二光纤耦合器(19)和第六光纤(20)，所述的样品台(15)供待测的高反射光学元件(8)设置，所述激光光源(1)的输出端通过所述第一光纤(9)与所述光纤隔离器(10)的输入端相连接，所述光纤隔离器(10)的输出端通过所述第二光纤(11)与所述第一光纤耦合器(13)的第一输入端相连，该第一光纤耦合器(13)输出的激光经过所述第四光纤(14)的传输后照射在所述的待测的高反射光学元件(8)上，所述的高反射光学元件(8)反射的激光经过所述第五光纤(18)的传输后进入所述第二光纤耦合器(19)的输入端，所述第二光纤耦合器(19)的第一输出端与所述第一光纤耦合器(13)的第二输入端相连接，所述的第二光纤耦合器(19)的第二输出端与所述的光电探测器(5)的输入端相连，所述的光电探测器(5)的输出端与所述的示波器(6)的第二输入端相连，所述的示波器(6)的第一输入端与所述的信号发生器(7)的第二输出端相连，所述的信号发生器(7)的第一输出端与所述的激光光源(1)的控制端相连，所述的第一光纤耦合器(13)、第四光纤(14)、第五光纤(18)、第二光纤耦合器(19)和第三光纤(12)构成光纤环形谐振腔。

2.根据权利要求1所述的光学元件高反射率的测量系统，其特征在于所述的第三光纤(12)的长度大于1000米。

3.利用权利要求1所述的光学元件高反射率测量系统对光学元件高反射率的测量方法，其特征在于该方法包括以下步骤：

①在样品台(15)上放置参考样品，参考样品的反射率为R_ref，调节第一姿态调节机构(16)和第二姿态调节机构(17)，使激光经过样品的反射后在环形谐振腔中来回振荡，利用示波器(6)测量谐振腔输出电压的指数式衰荡曲线，然后拟合得到衰荡时间因子τ₀；

②在样品台(15)上放置待测的高反射光学元件(8)，再次利用示波器(6)测量谐振腔输出电压的指数式衰荡曲线，拟合得到衰荡时间因子τ₁；

③利用如下公式计算出待测的高反射光学元件(8)的反射率：

式中，L为光纤环形谐振腔的长度，c为光速。