[发明专利]一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置及方法有效

专利信息
申请号: 201810977436.4 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN109097120B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 樊栓狮;汪润凯;郎雪梅;王燕鸿;李刚 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C10L3/10 分类号: C10L3/10;B01J3/04
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 天然气 水合物 静态 强化 快速 连续 生成 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,包括料液箱入口阀(1)、料液箱(2)、料液箱出口阀(3)、天然气缓冲罐入口阀(4)、天然气缓冲罐(5)、第一压缩机(6)、第一压缩机出口调压阀(7)、压力控制系统(8)、反应釜(9)、温度控制系统(10)、制冷系统(11)、第一三通阀(12)、第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)、第二压缩机(15)、第二压缩机出口调压阀(16)和第二三通阀(17);

所述料液箱入口阀(1)依次连接料液箱(2)、料液箱出口阀(3)、反应釜(9),所述反应釜(9)还连接有制冷系统(11)与温度控制系统(10);

所述天然气缓冲罐入口阀(4)连接天然气缓冲罐(5),所述天然气缓冲罐(5)与第一压缩机(6)、第一压缩机出口调压阀(7)依次连接,所述第一压缩机出口调压阀(7)分别与压力控制系统(8)、反应釜(9)连接,所述反应釜(9)底部连接有第一三通阀(12),所述第一三通阀(12)分别与第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)连接;

所述天然气缓冲罐(5)还连接有第二压缩机(15),所述第二压缩机(15)与第二压缩机出口调压阀(16)、第二三通阀(17)依次连接,所述第二三通阀(17)分别与第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)连接,所述压力控制系统(8)连接第二压缩机出口调压阀(16);

所述反应釜内有个刮片(91)、液体均匀分布器(92)、进液口(94)、进气口(95)以及水合物浆出口(96),反应釜外有多个制冷半导体(93),所述刮片(91)位于反应釜内部,与反应釜内壁贴合,所述进液口(94)位于反应釜顶部,所述液体均匀分布器(92)位于反应釜上部,进液口下方,所述进气口(95)位于反应釜下方,所述水合物浆出口(96)位于反应釜底部,所述制冷半导体(93)环绕在反应釜外侧。

2.根据权利要求1中所述天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,所述刮片在反应釜内刮动方式包括:天然气推动、电机皮带传动或电机螺杆带动;所述刮片的个数为一个以上。

3.根据权利要求1中所述天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,所述反应釜(9)为立式圆筒型,其高径比为1:4~10,所述制冷系统(11)为环绕在反应釜(9)外侧的多个制冷半导体(93)与埋在釜壁中的多个温度监测器,在温度控制系统的作用下,沿反应釜轴向温度呈梯度分布,由上至下,依次降低,温度范围为:271K~261K。

4.根据权利要求1中所述天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,所述温度监测器检测反应釜(9)内壁温度,反馈给温度控制系统(10),并对制冷半导体(93)进行控制调节;所述压力控制系统(8)检测反应釜(9)与第一天然气水合物储罐(13)或第二天然气水合物储罐(14)内压力,并控制第一压缩机出口调压阀(7)与第二压缩机出口调压阀(16)。

5.根据权利要求1中所述天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,所述第一三通阀(12)与第二三通阀(17)均为可切换管路连接,当第一天然气水合物储罐(13)装满后,可切换管路使反应釜(9)以及第二压缩机(15)分别与第二天然气水合物储罐(14)连接,在第一天然气水合物储罐(13)拆卸更换时,接入第二天然气水合物储罐(14),确保连续生产,后续的生产过程同上。

6.根据权利要求1中所述的一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,所述温度控制系统(10)中温度监测器包括Pt100热电阻、K型热电阻或T型热电阻,所述压力控制系统检测压力是通过压力传感器实现的。

7.利用权利要求1所述装置进行天然气水合物静态强化快速连续生成方法,其特征在于,将水合物生成促进剂与水配成水溶液,进入反应釜中沿反应釜内壁呈膜状流下,在流动的过程中梯度降温,从反应釜底部通入2~8MPa的天然气,与液膜逆流接触,从而形成水合物膜,在反应釜内刮片的作用下,脱离反应釜内壁,与溶液形成水合物浆流入水合物储罐中;

包括如下步骤:

(1)进料:启动制冷系统,通过环绕在反应釜外侧的多个制冷半导体,对反应釜进行梯度降温,接着启动第一压缩机与第二压缩机,对天然气缓冲罐中的天然气加压并从反应釜底部进气,对第一天然气水合物储罐进气,设置天然气水合物储罐内压力与反应釜压力相同,启动进液泵,料液箱中的溶液从反应釜顶部进液,其经液体均匀分布器的作用,沿反应釜内壁呈膜状均匀流动;

(2)反应:保持反应釜内绝对压力为2~8MPa,温度梯度为271K~261K,天然气与水作用生成天然气水合物薄膜,在釜内刮片的作用下,实现水合物薄膜与壁面分离,与未反应的溶液形成水合物浆,进入水合物储罐;

(3)分离:待第一天然气水合物储罐装满时,切换第一三通阀与第二三通阀,使第二天然气水合物储罐与反应釜以及第二压缩机连通,拆卸更换第一天然气水合物储罐;待第二天然气水合物储罐装满时,再一次切换第一三通阀与第二三通阀,使更换后的第一天然气水合物储罐与反应釜以及第二压缩机连通,后续的生产过程同上;

所述水合物生成促进剂包括十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、亮氨酸、四丁基溴化铵、四丁基氟化铵、四丁基氯化铵、四丁基溴化膦、甲基叔丁基醚、甲基环乙烷、环戊烷、Tween-80、十二烷基三甲基氯化铵、叔丁醇、离子液体中的一种以上;

液体由反应釜顶部进入后,经液体均匀分布器,沿反应釜内壁膜状流动,与从反应釜下方进入的天然气反应生成水合物,刮片将附着在反应釜内壁的水合物刮下,与未反应的液体形成水合物浆,经由反应釜底部的管道进入天然气水合物储罐。

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