[发明专利]喷墨渗花玉质抛光砖及其制备方法有效
申请号: | 201810979573.1 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN108975891B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 范新晖;廖花妹;潘婷;吴志坚;吴柏惠 | 申请(专利权)人: | 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B35/18 | 分类号: | C04B35/18;C04B35/14;C04B33/24;C04B33/13;C04B33/04;B28B11/00;C04B35/622;C04B35/63;C04B35/632;C04B35/634 |
代理公司: | 佛山市恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 44688 | 代理人: | 史亮亮 |
地址: | 528000 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 玉质 抛光 及其 制备 方法 | ||
1.一种喷墨渗花玉质抛光砖,其特征在于,包括砖坯,所述砖坯以质量百分比计,包括:
Al2O321-26%、Ce2O30.1-0.2%、SiO264-70%、Fe2O30.1-0.2%、TiO20.1-0.2%、LiNbO30.1-0.2%、CaO0.1-0.2%、K2O1-3%、Na2O1-5%、MgO0.1-0.2%、Li2O0.1-0.4%、P2O50.1-0.2%、BaTiO30.1-0.2%、RuO20.1-0.2%、V2O50.1-0.2%、Bi2O30.1-0.2%、Lu2O30.1-0.2% 、SrZrO30.1-0.2%和MgAl2O40.1-0.2%。
2.根据权利要求1所述的喷墨渗花玉质抛光砖,其特征在于,还包括辅料,所述辅料以为质量百分比计,包括十水合碳酸钠0.05-0.1%、五水偏硅酸钠0.05-0.1%、焦磷酸钠0.05-0.1%、铋酸钠0.05-0.1%和丙烯酸钠0.05-0.1%。
3.一种权利要求1或2任一项所述喷墨渗花玉质抛光砖的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A.砖坯原料加适量的水经球磨成为浆料,然后喷雾干燥得到粉料,再液压成型得到半成品砖坯,将所述半成品砖坯干燥得到所述砖坯;
B.在所述砖坯的表面依次喷施酸化剂和助渗剂后进行喷墨打印渗花,然后控制最高烧成温度进行烧制,得到半成品;所述酸化剂的喷剂量为20-60g/m2,所述助渗剂的喷剂量为35-55g/m2;
C. 经过磨边、抛光、打蜡,得到产品。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述酸化剂为弱酸的水溶液,pH值为5-6;所述弱酸为甲酸、乙酸、碳酸中的一种或多种;
所述助渗剂,按重量份数计,包括硅溶胶50-80份、聚乙烯醇水溶液20-40份、脂肪醇聚氧乙烯醚5-10份、乙二醇5-10份。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述硅溶胶pH值为6.5-7.5。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述聚乙烯醇水溶液的质量浓度为10-20%。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述最高烧成温度范围为1150-1180℃。
8.根据权利要求 3-7任一项所述的制备方法,其特征在于,所述粉料以质量百分比计,粒度分布为:50-100目5%、100-200目35%、200-250目35%、300-350目25%。
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