[发明专利]化学液槽装置

说明书

本发明涉及一种化学液槽装置，包括：化学液槽体，用于盛放化学液；循环单元，包括连接所述化学液槽体的循环管路，所述循环管路一端连接至所述化学液槽体的溶液输出端，另一端连接至所述化学液槽体内的喷嘴，化学液自所述化学液槽体的溶液输出端流出，经过所述循环管路后通过所述喷嘴喷出而进入所述化学液槽体内；浓度调整单元，包括支管路，所述支管路的输入端和输出端分别通过三通阀连接至所述循环管路，且所述支管路的路径上设置有离子源容器，所述离子源容器两端与所述支管路连通，用于放置离子源物质。所述化学液槽装置能够自动调整化学液内的杂质离子浓度。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种化学液槽装置。

背景技术

在半导体工艺中的磷酸腐蚀工艺中，磷酸槽内的磷酸溶液中的Si浓度需要保持在一定范围的以维持稳定的刻蚀速率。随着腐蚀工艺的进行，磷酸中的Si浓度会发生变化，因此需要通过一定手段对磷酸溶液内的Si浓度进行调节，将Si浓度控制在一定范围内。

现有技术中，可以通过更换新的磷酸溶液来降低Si浓度，或者通过溶解晶圆表面的SiN层来提高磷酸溶液中的Si浓度，从而使得磷酸溶液中的Si浓度稳定。上述过程会耗费大量时间和晶圆资源，效率较低。

如何提高磷酸溶液中Si浓度的调整效率，是目前亟待解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种化学液槽装置，能够自动调节所述化学液槽内的化学溶液内的杂质离子浓度。

为解决上述问题，本发明的具体实施方式提供一种化学液槽装置，包括：一种化学液槽装置，其特征在于，包括：化学液槽体，用于盛放化学液；循环单元，包括连接所述化学液槽体的循环管路，所述循环管路一端连接至所述化学液槽体的溶液输出端，另一端连接至所述化学液槽体内的喷嘴，化学液自所述化学液槽体的溶液输出端流出，经过所述循环管路后通过所述喷嘴喷出而进入所述化学液槽体内；浓度调整单元，包括支管路，所述支管路的输入端和输出端分别通过三通阀连接至所述循环管路，且所述支管路的路径上设置有离子源容器，所述离子源容器两端与所述支管路连通，用于放置离子源物质。

可选的，所述离子源物质为能够溶解于所述化学液的化学物。

可选的，所述化学液为磷酸，所述离子源物质包括氮化硅、氧化硅中的至少一种。

可选的，所述循环单元还包括设置于所述循环管路路径上的加热器、过滤器以及泵。

可选的，所述加热器和过滤器设置于所述支管路的输出端与所述化学液槽体之间。

可选的，所述泵设置于所述化学液槽体与所述支管路的输入端之间。

可选的，还包括：化学液排出单元，包括连通至所述化学液槽的排出管路和设置于所述排出管路上的第一阀门。

可选的，还包括：稀释单元，包括稀释管路和设置于所述稀释管路上的第二阀门，所述稀释管路一端通入所述化学液槽体，另一端用于连接至稀释液体源。

可选的，所述化学液槽体包括外槽体和位于所述外槽体内的内槽体。

可选的，所述溶液输出端位于所述外槽体上，所述喷嘴位于所述内槽体内。

本发明的化学液槽装置包括浓度调整单元，能够自动调节化学液内的杂质离子浓度，从而无需通过更换溶液或者溶解晶圆上特定材料薄膜等特定程序来对离子浓度进行调整，可以节约时间，提高效率。

附图说明

图1为本发明一具体实施方式的化学液槽装置的结构示意图；

图2为本发明一具体实施方式的化学液槽装置的控制结构示意图。

具体实施方式