[发明专利]SONOS栅端控制电压产生电路有效
申请号: | 201810984642.8 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN109164863B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 赵艳丽 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G05F1/56 | 分类号: | G05F1/56 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | sonos 控制 电压 产生 电路 | ||
本发明公开了一种SONOS栅端控制电压产生电路,电荷泵输出端输出负高压信号,多个电阻串联连接在基准电压端与负高压VNEG信号之间,进行分压;多个开关一端依次对应连接在电阻R(K+1)与R0之间串联连接的节点上,另一端连接在一起,作为分压电压输入端;运放的反向输入端接地,正向输入端连接在电阻R(n)与R(K+1)串联节点,输出端与电荷泵相连接;一PMOS晶体管和两个NMOS晶体管依次串联;第一NMOS晶体管的栅极输入分压电压,源极与第二NMOS晶体管的漏极的连接端输出SONOS栅端控制电压信号VNEG_P,该VNEG_P是高于VNEG的负高压信号。本发明能够有效缩短SONOS栅端控制电压的建立时间。
技术领域
本发明涉及半导体集成电路领域,特别是涉及一种SONOS(Semiconductor-Oxide-Nitride-Oxide-Semiconductor闪速存储器)栅端控制电压产生电路。
背景技术
NVM(非易失性存储器)FLASH(闪存)在高压编程操作时,会对不操作行有一种擦除类型的干扰,这种干扰现象会影响FLASH的可靠性。
为提升FLASH的可靠性,在高压编程操作时,需要将不选中行单元的WLS(栅端)端电位,由VNEG(负高压)升高到VNEG_P,该VNEG_P是高于VNEG的负高压,以降低不选中单元(cell)栅端与漏端的电压差,从而减轻干扰。
现有的产生VNEG_P电压电路(即现有的SONOS栅端控制电压产生电路),如图1所示,由多个电阻,一PMOS晶体管PM1、一NMOS晶体管NM1、一运算放大器YF、一电荷泵DHB组成。VREF为基准电压、所述电荷泵DHB输出VNEG。
所述多个电阻R(n)、R(K+1)、R(K)…R1、R0串联连接在VREF与VNEG之间,其中,R(n)为第n个电阻,R(K)为第K个电阻,n和K为大于等于零的整数,且K小于n。
所述运算放大器YF的正相输入端连接在电阻R(n)与R(K+1)的串联节点DIV上。该运算放大器YF的反相输入端接地,其输出端与电荷泵DHB相连接。如前所述电荷泵DHB输出VNEG。
PMOS晶体管PM1的源极接地GND,其漏极与NMOS晶体管NM1的漏极相连接,其栅极输入SONOS栅端控制电压产生信号CTRL1。
多个开关S(K)…S1、S0的一端分别连接在电阻R(K+1)与R0之间串联连接的节点上,另一端作为分压电压VNEG_PP输入端与NMOS晶体管NM1的栅极端相连接。这样,在电荷泵DHB输出的VNEG与基准电压VREF之间采用电阻分压抽头的方式,将分压电压VNEG_PP输入到NMOS晶体管NM1的栅极端。该分压电压VNEG_PP经过NMOS晶体管NM1的Vt(栅端与源端阈值电压)后,在NMOS晶体管NM1的源极端生成VNEG_P,该VNEG_P多档可调。
上述电路存在的问题在于,当VNEG_P信号的负载电容过大时,VNEG_P的建立时间会过长,进而吃掉高压编程的时间,影响SONOS单元特性。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种SONOS栅端控制电压产生电路,能够有效缩短SONOS栅端控制电压的建立时间。
为解决上述技术问题,本发明的SONOS栅端控制电压产生电路,由一运算放大器、一电荷泵、一PMOS晶体管、两个NMOS晶体管、多个开关和多个电阻组成;
所述多个开关分别记为S(K)…S1、S0,所述多个电阻分别记为R(n)、R(K+1)、R(K)…R1、R0,其中,R(n)为第n个电阻,R(K)为第K个电阻,S(K)为第K个开关,n和K为大于等于零的整数,且K小于n;
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