[发明专利]由计算系统执行的方法

说明书

本发明公开一种由计算系统执行的方法，包含：接收布局图案；接收与布局图案相关联的目标图案；接收与目标图案相关的一组约束；模拟与布局图案相关联的第一轮廓；确定第一轮廓与目标图案之间的第一差；模拟与经修改布局图案相关联的第二轮廓；以及确定第二轮廓与经修改目标图案之间的第二差。经修改目标图案不同于目标图案并在约束内。方法进一步包含制造具有最终布局图案的掩模。

技术领域

本发明实施例涉及一种由计算系统执行的方法。

背景技术

可使用各种光刻技术形成集成电路。这类技术通常涉及通过图案化光掩模使光刻胶层暴露于光源。一般来说，形成到光刻胶层上的最终图案并不正好与在光掩模中形成的图案匹配。这是由例如光源分辨率的各种光刻过程参数所导致的。重要的是，确保最终印刷图案与所设计的图案不会相差很多使得电路功能性受到不利影响。

通常，电路设计员将目标图案发送给掩模制造商。目标图案通常定义为形成所需图案的几个多边形特征。掩模制造商可随后创建与目标图案相关联的初始布局图案。随后，掩模制造商可对目标图案应用各种光刻模型以创建优化后的布局图案。优化后的布局图案可随后用于制造掩模。随后将所制造的掩模用于光刻过程以在光刻胶层上形成所需图案。合乎希望的是改进这一过程以允许更好地制造更复杂的电路设计。

发明内容

根据本发明的实施例，一种由计算系统执行的方法，所述方法包括：接收布局图案；接收与所述布局图案相关联的目标图案；接收与所述目标图案相关的一组约束；模拟与所述布局图案相关联的第一轮廓；确定所述第一轮廓与所述目标图案之间的第一差；模拟与经修改布局图案相关联的第二轮廓；确定所述第二轮廓与经修改目标图案之间的第二差，所述经修改目标图案不同于所述目标图案并在所述约束内；以及制造具有最终布局图案的掩模。

根据本发明的实施例，一种由计算系统执行的方法，所述方法包括：接收布局图案；接收与所述布局图案相关联的目标图案；接收与所述目标图案相关的一组约束；在整个目标图案空间中迭代地模拟布局图案变化的轮廓，所述目标图案空间包括所述约束内的所述目标图案的变化；从所述目标图案空间中选择最终布局图案以及最终目标图案；以及制造具有所述最终布局图案的掩模。

根据本发明的实施例，一种计算系统包括处理器以及存储器。存储器包括机器可读指令，在由所述处理器执行时，所述机器可读指令使得所述系统：接收布局图案以及与所述布局图案相关联的目标图案；接收与所述目标图案相关的一组约束，所述约束对目标图案变化进行限制；在所述约束内的整个目标图案空间中迭代地模拟布局图案变化的轮廓；以及从所述目标图案空间中选择最终布局图案以及最终目标图案，其中所述最终布局图案的模拟轮廓与整个所述目标图案空间中的所述最终目标图案具有最小差。

附图说明

结合附图阅读时，根据以下详细描述最好地理解本公开的各方面。应注意，根据行业中的标准惯例，各种特征未按比例绘制。实际上，为了论述清晰起见，可任意增大或减小各种特征的尺寸。

图1是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的用于改进的布局图案优化的说明性方法的流程图。

图2A是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的说明性目标图案的简图。

图2B是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的经修改目标图案的简图。

图2C是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的所示出经修改布局图案的简图。

图3A、图3B以及图3C是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的对于目标图案特征的各种边缘放置误差约束的简图。

图4A是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的对于目标图案特征的边缘放置误差的简图。

图4B是绘示根据本文所描述的原理的一个实例的对于目标图案特征和模拟轮廓的边缘放置误差的简图。