[发明专利]通过添加剂的EUV金属光刻胶性能增强有效
| 申请号： | 201810989869.1 | 申请日： | 2018-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN110609442B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;郑雅如;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 添加剂 euv 金属 光刻 性能 增强 | ||
1.一种光刻胶材料，包括：
用于极紫外光刻的金属光刻胶材料；以及
添加剂；
其中，所述添加剂包括：沸点高于150℃的溶剂、光酸产生剂、光碱产生剂、猝灭剂、光分解碱、热酸产生剂或光敏交联剂，
其中，所述溶剂具有选自以下组成的组的化学式：
2.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述溶剂在所述金属光刻胶材料和所述添加剂中的浓度在1％至20％之间。
3.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述光酸产生剂包括阳离子组分和阴离子组分，其中，所述阳离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
并且其中，所述阴离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
4.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述光碱产生剂具有选自以下组成的组的化学式：
5.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述猝灭剂具有选自以下组成的组的化学式：
6.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述光分解碱包括阳离子组分和阴离子组分，其中，所述阳离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
并且其中，所述阴离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
7.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述热酸产生剂具有选自以下组成的组的化学式：
8.根据权利要求1所述的光刻胶材料，其中，所述光敏交联剂具有选自以下组成的组的化学式：
9.一种光刻方法，包括：
在晶圆上方形成光刻胶层，其中，所述光刻胶层包括金属光刻胶材料和一种或多种添加剂；以及
使用所述光刻胶层实施极紫外光刻工艺；
其中，所述一种或多种添加剂包括：沸点高于150摄氏度的溶剂、光酸产生剂、光碱产生剂、猝灭剂、光分解碱、热酸产生剂或光敏交联剂，
其中，所述光酸产生剂包括阳离子组分和阴离子组分，其中，所述阳离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
并且其中，所述阴离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
10.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述溶剂具有选自以下组成的组的化学式：
11.根据权利要求10所述的光刻方法，其中，所述溶剂在所述光刻胶层中的浓度在1％至20％之间。
12.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述光碱产生剂具有选自以下组成的组的化学式：
13.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述猝灭剂具有选自以下组成的组的化学式：
14.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述光分解碱包括阳离子组分和阴离子组分，其中，所述阳离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
并且其中，所述阴离子组分具有选自以下组成的组的化学式：
15.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述热酸产生剂具有选自以下组成的组的化学式：
16.根据权利要求9所述的光刻方法，其中，所述光敏交联剂具有选自以下组成的组的化学式：
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