[发明专利]一种多弧离子真空镀膜机

说明书

本发明公开了一种多弧离子真空镀膜机，包括外壳，所述外壳的外侧面下端安装有控制开关，所述控制开关的输入端与外部电源的输出端电连接，所述外壳的内侧面下端固定有环座，所述环座内侧设有环形的靶座，所述靶座内设有靶材，所述靶座的下端面设有限位环，所述限位环的外环面下端固定有齿环，本多弧离子真空镀膜机，控制简单，加工及使用方便，在真空环境下利用引弧产生弧光放电，激发等离子体的快速逸出，靶材蒸发的等离子体沉积在基材的表面，从而实现工件的镀膜，阳极板与靶材之间具有较大的距离，方便框架和基材的安装，使得等离子体穿过框架的安装腔，更加均匀的附着在基材的表面。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体为一种多弧离子真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等，然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别，多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积，简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积，但现有的多弧离子镀膜机通过较近距离的阴阳极设置进行弧光放电，不利于靶材等离子体的快速逸出和蒸发，同时靶材的挥发和使用不均匀，影响等离子体在基材表面附着的均匀性。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种多弧离子真空镀膜机，结构简单，使用方便，可以有效进行基材的多弧离子镀膜，靶材蒸发均匀，保证镀膜的均匀性，同时提高等离子体逸出的速度，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种多弧离子真空镀膜机，包括外壳，所述外壳的外侧面下端安装有控制开关，所述控制开关的输入端与外部电源的输出端电连接，所述外壳的内侧面下端固定有环座，所述环座内侧设有环形的靶座，所述靶座内设有靶材，所述靶座的下端面设有限位环，所述限位环的外环面下端固定有齿环，所述环座下表面安装有竖直方向的伺服电机，所述伺服电机的输出轴上固定有与齿环啮合的齿轮，所述靶材的下表面固定有蒸发装置，所述蒸发装置通过底座与外壳的内腔底面固定相连，所述蒸发装置上表面设有阴极座，所述外壳的侧面下端安装有进气管，所述进气管的中部安装有第一阀门，所述外壳内侧面的中部安装有环形的磁场线圈，所述外壳的内侧面左端固定有侧杆，所述侧杆的内侧端固定有托轴，所述托轴的上侧安装有基材架，所述外壳的上端面安装有阳极板，所述阳极板与控制开关的正极线路相连，所述阳极板的下表面设有引弧杆，所述外壳左侧面与基材架对应的位置设有仓门，所述仓门通过仓板封闭，所述外壳侧面上端设有负压管和压力表，所述负压管的中部安装有真空泵和第二阀门，所述控制开关的输出端分别与伺服电机、磁场线圈和真空泵的输入端电连接。

作为本发明的一种优选技术方案，所述靶座侧面的螺纹孔内设有螺丝，所述螺丝的内侧端固定有压杆。

作为本发明的一种优选技术方案，所述蒸发装置包括安装板，所述安装板上表面设有环形的电热环，所述电热环的输入端与控制开关的输出端电连接。

作为本发明的一种优选技术方案，所述阴极座包括安装板下表面径向分布的极片，所述极片的上表面等距分布有贴片，所述极片与控制开关的负极线路相连。

作为本发明的一种优选技术方案，所述基材架包括框架，所述框架整体为圆柱体架构，所述框架的下端中心位置固定有与托轴转动连接的轴座。

作为本发明的一种优选技术方案，所述框架的内侧固定有竖直方向的竖杆，所述竖杆上等距分布有夹具。

作为本发明的一种优选技术方案，所述引弧杆为“L”型杆，所述引弧杆的下侧水平部分等距分布有贴杆。

作为本发明的一种优选技术方案，所述引弧杆竖直部分的中部通过曲杆过渡连接，所述曲杆处在外壳内侧面的隔离罩内。