[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，含有10至30重量％的过氧化氢；含有0.1至5重量％的蚀刻抑制剂，其选自分子内含有氧、硫及氮中至少一个以上的杂原子的单环式杂环化合物，具有所述单环式杂环和苯环缩合结构的复素环化合物及其混合物所构成的群；含有0.1至5重量％的螯合剂；含有0.1至5重量％的蚀刻添加剂，其为一种以上选自由无机酸、有机酸及其盐构成群的化合物；含有0.01至2重量％的氟化物；含有0.01至2重量％的钼膜或钼合金膜的侧蚀抑制剂，其包括在嘧啶和咪唑的缩合结构内，含有由氨基、羟基、羰基及甲基构成的群中的1个以上作用基的化合物，所述侧蚀抑制剂是选自由腺嘌呤、鸟嘌呤、次黄嘌呤、黄嘌呤、可可碱、咖啡因、异鸟嘌呤、尿酸及其混合物构成的群中的嘌呤碱；以及使组合物总重量达到100重量％的水。

2.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述抑制剂选自由呋喃、噻吩、吡咯、恶唑、咪唑、吡唑、1,2,4-三氮唑、四唑、5-氨基四唑、甲基四唑、哌嗪、甲基哌嗪、羟乙基哌嗪、吡咯烷及四氧嘧啶、氧茚、苯并噻吩、吲哚、苯并咪唑、苯并吡唑、氨基四唑、甲基苯并三唑、氢甲基苯并三唑、羟甲基苯并三唑及其混合物所构成的群。

3.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂是在分子内与氨基一起，含有羧酸基或磷酸基的化合物。

4.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂选自由亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、氨基三亚甲基膦酸、1-羟基亚乙基-1,1-二磷酸、乙二胺四甲撑磷酸、二亚乙基三胺五亚甲基磷酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸及甘氨酸及其混合物构成的群。

5.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述添加剂选自由含有硫酸、硝酸、磷酸、盐酸及氢氟酸的无机酸，含有醋酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡萄糖酸、甘氨酸、琥珀酸的有机酸，以及其盐和其混合物所构成的群。

6.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻添加剂选自由硫酸氢钾、硫酸氢钠、硫酸钠、过硫酸钠、硫酸钾、过硫酸钾、硫酸铵、过硫酸铵及其混合物构成的群中的硫酸盐。

7.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟化物是离解出F^-或HF₂^-的化合物。

8.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟化物选自由HF、氟化钠、氟化钾、氟化铝、硼氟酸、氟化铵、氟化氢铵、氟化氢钠、氟氢化钾及氟硼酸铵及其混合物所构成的群。

9.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述侧蚀抑制剂为腺嘌呤、鸟嘌呤、异鸟嘌呤及其混合物。

10.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述水是电阻率为18MΩ/cm以上的脱离子水。

11.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，还包括添加剂，所述添加剂选自由双氧水稳定剂、蚀刻稳定剂、玻璃蚀刻抑制剂及其混合物所构成的群。