[发明专利]航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层及制备方法

权利要求书

1.一种航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1）基底表面预处理：将基底依次在去离子水、丙酮、乙醇中进行超声清洗；

2）涂层沉积：在基底上交替沉积石墨烯层和二硫化钼层形成多层交替涂层；

3）涂层的后处理：涂层在真空下进行退火以及涂层衬底的转移；涂层的真空退火温度为200-1500℃，退火时间为0.5-3h；

该涂层包括基底上的多层交替涂层，多层交替涂层由若干个涂层单元组成，每个涂层单元由一层二硫化钼层（3）和一层石墨烯层（4）交替沉积而成，其中每个涂层单元内二硫化钼层的厚度为0.65-100nm，石墨烯层的厚度为0.34-20nm，涂层总厚度为10-2000nm；

沉积每个涂层单元时进行金属或非金属掺杂，所述的金属掺杂包括钛、铬、金、铌或银掺杂，所述的非金属掺杂包括碳或氮掺杂；

在沉积每个涂层单元之间引入稀有气体进行轻微刻蚀，所述的稀有气体包括氦气，氩气，氙气或氖气，偏压为10-300V，刻蚀时间为1-20min。

2.根据权利要求1所述的一种航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层的制备方法，其特征在于，所述的基底材料包括铁、铜、镍、铂、钴、具有金属薄膜的硅、具有金属薄膜的二氧化硅或具有金属薄膜的蓝宝石。

3.根据权利要求1所述的一种航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层的制备方法，其特征在于，步骤2）多层交替涂层的沉积方法包括物理气相沉积和化学气相沉积中的一种或多种，其中物理气相沉积包括磁控溅射，反应溅射，电弧等离子体镀或分子束外延，化学气相沉积包括低压化学气相沉积，激光化学气相沉积或等离子增强化学气相沉积，总沉积时间为0.5-10h。

4.根据权利要求1所述的一种航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层的制备方法，其特征在于，所述的涂层单元总数为1-20。