[发明专利]复合薄膜敏感材料、红外探测器及制备方法

权利要求书

1.复合薄膜敏感材料，其特征在于：包括二维材料层和金属纳米颗粒层；其中，金属纳米颗粒为圆锥状，底面直径为5～40nm、高度为3～17nm，金属纳米颗粒层为单层的金属纳米颗粒；所述复合薄膜敏感材料的制备方法，包括以下步骤：将金属溅射到二维材料上，所述溅射的条件为：电流20～40mA，真空度38～40mbar，氩气压力0.02～0.8mbar，溅射距离25～30mm，溅射速度0.5～2.2nm/s，溅射时间0.5～3s。

2.根据权利要求1所述的复合薄膜敏感材料，其特征在于：金属纳米颗粒层中两两颗粒底面中心之间的距离为3～30 nm。

3.根据权利要求1或2所述的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的二维材料为二硫化钼、掺杂的石墨烯、硒化铟或硒化镓中的任意一种；所述的金属为能够产生局域表面等离子共振的材料。

4.根据权利要求3所述的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的金属为金、银或铜中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的金属为金或银。

6.带有载体的复合薄膜敏感材料，其特征在于：包括权利要求1～5任一项所述的复合薄膜敏感材料和载体。

7.根据权利要求6所述的带有载体的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的载体为高介电材料。

8.根据权利要求7所述的带有载体的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的高介电材料为二氧化硅、蓝宝石、玻璃、HfO₂、锆钛酸铅压电陶瓷或聚偏氟乙烯中的任意一种。

9.根据权利要求8所述的带有载体的复合薄膜敏感材料，其特征在于：所述的高介电材料为二氧化硅。

10.权利要求1～5任一项所述的复合薄膜敏感材料或权利要求6～9任一项所述的带有载体的复合薄膜敏感材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：将金属溅射到二维材料上或者将金属溅射到固定在载体上的二维材料上。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于：所述固定在载体上的二维材料通过机械剥离、退火工序制备得到，或者通过气相沉积法制备得到。

12.红外探测器，其特征在于：由权利要求1～5任一项所述的复合薄膜敏感材料或权利要求6～9任一项所述的带有载体的复合薄膜敏感材料镀上电极制备而成。