[发明专利]一种基于氧化镓纳米柱阵列的光电化学型日盲紫外探测器有效
申请号: | 201810997396.X | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN109103282B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 郭道友 | 申请(专利权)人: | 北京镓族科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/09;H01L31/18 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王文君;王文红 |
地址: | 101300 北京市顺义区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 氧化 纳米 阵列 光电 化学 型日盲 紫外 探测器 | ||
1.一种基于氧化镓纳米柱阵列的光电化学型日盲紫外探测器的制备方法,其特征在于,包括生长在衬底上的氧化镓纳米柱阵列光阳极,所述的氧化镓纳米柱阵列是在透明导电衬底上生长的α相或β相氧化镓纳米柱阵列;所述透明导电衬底为掺氟的SnO2透明导电FTO衬底、掺铟的SnO2透明导电ITO电极、掺铝的ZnO透明导电AZO电极中的一种,衬底的透明导电薄膜厚度为300~400nm,透光率85~95%;
所述的氧化镓纳米柱的横截面为四边形或近似四边形,纳米柱高为1~2μm,横截面对角线长度为80~500nm;
具体制备步骤如下:
(1)衬底预处理:用丙酮、无水乙醇、去离子水中的一种或多种对透明导电衬底进行超声清洗,然后干燥;
(2)水热法和高温退火法制备氧化镓纳米柱阵列:将步骤(1)预处理过的透明导电衬底倚靠在高压反应釜内壁,加入没过透明导电衬底面积70~90%的Ga(NO3)3生长溶液,拧紧反应釜,置于烘箱中100~200℃加热6~12个小时,得到GaOOH纳米柱阵列;
(3)反应完成后,取出生长有GaOOH纳米柱阵列的透明导电衬底,水冲洗干净,并烘干;然后将GaOOH纳米柱阵列在400~600℃下退火2~6个小时制备成α相氧化镓纳米柱阵列光阳极;或者在680~710℃温度下退火2~6个小时制成β相氧化镓纳米柱阵列光阳极;
(4)光电化学型日盲紫外探测器的组装:将电流检测器件的二个电极分别连接在生长有α相或β相氧化镓纳米柱阵列光阳极和阴极上;
所述Ga(NO3)3生长的浓度为3~20g/L。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,还包括阴极、电解液和光学窗口,所述氧化镓纳米柱阵列光阳极与光学窗口相对,阳极和阴极之间放置所述电解液。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,在254nm波长光照下、工作电压为0伏时,所述光电化学型日盲紫外探测器的光电流密度为1.0~11μA/cm2。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述阴极和阳极之间填充有电解液,所述电解液中含有硫酸钠或硫酸钾,电解液浓度为0.1~0.5mol/L。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的