[发明专利]显影废液处理装置和处理方法

说明书

本发明提供一种显影废液处理装置和处理方法，其在后段作为高度精制处理而进行浓缩/冷却析晶处理，从而能够获得可作为显影液而再利用的高纯度回收液。显影废液处理装置1由前段冷却析晶单元2a和后段冷却析晶单元2b构成，所述后段冷却析晶单元2b对利用前段冷却析晶单元2a进行了回收精制的回收液进行高度精制处理。前段冷却析晶单元2a和后段冷却析晶单元2b均以进行“浓缩→冷却析晶→晶体分离→溶解”这一系列处理的方式构成。前段冷却析晶单元2a具有前段浓缩装置3a、前段冷却析晶装置4a、前段固液分离装置5a、溶解装置6a、前段滤液罐7a。后段冷却析晶单元2b具有后段浓缩装置3b、后段冷却析晶装置4b、后段固液分离装置5b、溶解罐6b、后段滤液罐7b。

技术领域

本发明涉及从半导体、液晶工厂的显影废液中去除杂质并回收可再利用的显影液的显影废液处理装置和处理方法。

背景技术

为了从半导体、液晶工厂的显影废液中回收可再利用的显影液(氢氧化四甲基铵、氢氧化四烷基铵等)，需要去除光致抗蚀剂等杂质。作为回收方法，已知进行如下操作：作为前处理，对废液进行中和处理而预先去除光致抗蚀剂，其后利用电分解处理来进行精制(参照专利文献1，以下称为现有例1)；利用离子交换树脂进行精制(参照专利文献2，以下称为现有例2)。

然而，利用这样的前处理来去除光致抗蚀剂的方法中，在光致抗蚀剂浓度高的情况下、要处理的显影废液量大的情况下，产生难以分离光致抗蚀剂的课题。因而，为了消除所述课题，提出了将显影废液浓缩并进一步进行冷却析晶的方法(参照专利文献3，称为现有例3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本再表2006-59760号公报

专利文献2：日本特开平4-228587号公报

专利文献3：日本特开平10-53567号公报

发明内容

发明要解决的问题

使用了上述浓缩/冷却析晶的第三现有例中，与中和处理等相比，光致抗蚀剂的去除较为容易，因此还可应用于光致抗蚀剂的浓度高的情况、要处理的显影废液的量大的情况，第一现有例、第二现有例的课题得以解决。然而现状是：该第三现有例中的杂质去除仍不充分，得不到可作为显影液而再利用的高纯度回收液。

因而，期望在前段浓缩/冷却析晶处理的基础上，在后段进行高度精制处理，从而能够获得可作为显影液而再利用的高纯度回收液的显影废液处理装置和处理方法。

本申请是鉴于上述课题而想出的，其目的是提供一种显影废液处理装置和处理方法，其在后段作为高度精制处理而进行冷却析晶处理，从而能够得到可作为显影液而再利用的高纯度回收液。

用于解决问题的方案

为了实现上述目的，权利要求1所述的发明是一种显影废液处理装置，其特征在于，其具备：前段浓缩装置，将显影废液进行浓缩；前段冷却析晶装置，将从上述前段浓缩装置供给的浓缩液进行冷却析晶，生成析出有晶体的浆料；前段固液分离装置，从上述前段冷却析晶装置所供给的浆料中分离晶体；溶解装置，具有加热机构，将从上述前段固液分离装置供给的晶体进行加热溶解；后段冷却析品装置，将从上述溶解装置供给的溶解液进行冷却析晶，生成析出有晶体的浆料；后段固液分离装置，从上述后段冷却析晶装置所供给的浆料中分离晶体；和溶解罐，将从上述后段固液分离装置供给的晶体进行溶解。

如上所述，通过进行多重的冷却析晶处理，能够获得可作为显影液而再利用的高纯度回收液。