[发明专利]用来基于接触同时采集手足的印痕的装置有效

专利信息
申请号: 201810999603.5 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN109426812B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 约格·莱茵霍尔德;德克·莫格内尔;丹尼尔·克伦泽;尤尔根·希尔曼;菲利普·里尔;乌迪内·利希特 申请(专利权)人: 杰内特里克股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 靖亮
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用来 基于 接触 同时 采集 手足 印痕 装置
【权利要求书】:

1.一种用于借助受干扰的全反射基于接触同时采集人类手足的多个血液通流的皮肤区域的印痕的装置,所述装置从发生接触的皮肤区域的方向上包括:

预定厚度的保护体(103),具有放置面(102),其中,放置面(102)的尺寸使得能够同时放置多个手足;

传感器层(104),包括以阵列形式布置的光敏传感器元件(201),用于检测至少一个预定波长范围的光,其中,对于至少一个预定义的照射波长范围的光而言透明的通带区域(202)布置在光敏传感器元件(201)之间;

光导(106),由对于预定照射波长范围的光透明的材料制成,光导设计成平面平行板的形式,光导具有下部大面(155)和与下部大面平行设置的上部大面(156),上部大面朝向传感器层(104),光导还具有多个将大面(155、156)彼此连接的窄面,其中,窄面中的一个设计为用于照明光的耦合输入面;以及

光源(112),所述光源沿耦合输入面(158)的纵向发射照明光,

其特征在于,

光源(112)以在围绕优先方向的有限的角度范围(151)内发光的方式设计,其中,优先方向(113)与大面(155、156)夹成入射角,入射角以如下方式规定:使得在所述角度范围(151)内发出的光在进入光导(106)之后,在大面(155、156)上,当相邻的介质具有空气的折射率的情况下,主要会被全反射,

在传感器层(104)与光导(106)之间布置有镜面层,镜面层将照射光的一部分反射回光导(106),并且透射照射光的另一部分,以及

所述装置根据距光源(112)的距离分别包括:用于使通过光导(106)的上部大面(156)从光导中打到放置面(102)上的照射光的照射强度均匀化的机构,和/或根据从保护体(103)打到放置面(102)上的照射光的照射强度,用于使需要检测的光量均匀化的机构,

其中,用于使照射强度均匀化的机构构造在镜面层(105)上,镜面层与传感器层(104)和光导(106)光学耦合,镜面层(105)的反射程度随着距光源(112)的距离增加而减小,并且透射程度增加,

或者其中,用于使照射强度均匀化的机构包括吸收层(303),吸收层在镜面层(105)与传感器层(106)之间布置且与镜面层和传感器层光学耦合,或者吸收层在光敏传感器元件(201)之间布置在通带区域(204)中,当距光源(112)的距离增加时,针对照明光的吸收层的吸收程度减少,透射程度增加。

2.根据权利要求1所述的装置,具有构造在镜面层(105)上用于使照射强度均匀化的机构,其特征在于,镜面层(105)包括反射区域(208)和透射区域(207),其中,每单位面积反射区域(208)的比例随着远离光源(112)而平均减小,每单位面积透射区域(207)的比例随着远离光源(112)而平均增加。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,反射区域(208)的密度和/或尺寸随着距光源(112)的距离增大而减小,而透射区域(207)的密度和/或尺寸则增大。

4.根据权利要求1所述的装置,具有构造在镜面层(105)上用于使照射强度均匀化的机构,其特征在于,镜面层(105)的厚度随着远离光源(112)而减小。

5.根据权利要求1所述的装置,具有构造在镜面层(105)上用于使照射强度均匀化的机构,其特征在于,主要引起镜面层(105)上的反射的材料的密度随着距光源(112)的距离的增大而减小。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置,其特征在于,用于使要检测的光量均匀化的机构包括布置在光敏传感器元件(201)上方的像素孔径光阑(132),像素孔径光阑的孔(203)随着距光源(112)的距离的增大而增加。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的装置,其特征在于,用于使要检测的光量均匀化的机构包括用于改变光敏传感器元件(201)的灵敏度的控制器。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的装置,其特征在于,耦合输入面(158)的法线平行于优先方向(113)而置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杰内特里克股份有限公司,未经杰内特里克股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810999603.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top