[发明专利]一种高透型单银低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201810999847.3 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109305763B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 姚衡;罗文忠;姚永凯 | 申请（专利权）人： | 望美实业集团有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 河北鸿蒙知识产权代理有限公司 13147 | 代理人： | 刘芸;陈栋梁 |
| 地址： | 054100 河北省邢台*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高透型单银低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种高透型单银低辐射镀膜玻璃制备方法，采用磁控溅射工艺，其特征在于：其制备方法包括以下步骤：
1）. 溅射第一层SiNx层：靶材数量为磁控溅射交流旋转靶2-8根,中频交流旋转阴极，靶材为硅铝靶，工艺气体配置为氩气氮气，具体比例为氩气：氮气=1:1.17，溅射压力为3~5×10-3mbar，镀膜厚度为10~30nm；
2）.溅射第二层ZnAlOx层：靶材数量为磁控溅射交流靶2-4根，中频交流旋转阴极，靶材为锌铝靶，工艺气体配置为氩气，氧气，具体比例为氩气：氧气=1:1.67，溅射压力为3~5×10-3mbar，镀膜厚度为10~30nm；
3).溅射第三层NiCr层：靶材数量为直流平面靶1副，直流平面阴极，靶材为镍铬靶，工艺气体为纯氩，溅射压力为2~4×10-3mbar，镀膜厚度为0.1~0.5nm；
4).溅射第四层Ag层：靶材数量为直流平面靶1副，直流平面阴极，靶材为银靶，工艺气体为纯氩，溅射压力为2~4×10-3mbar，镀膜厚度为3~9nm；
5). 溅射第五层NiCr层：靶材数量为直流平面靶1副，直流平面阴极，靶材为镍铬靶，工艺气体为纯氩，溅射压力为2~4×10-3mbar，镀膜厚度为0.3~0.7nm；
6).溅射第六层ZnAlOx层：靶材数量为磁控溅射交流靶2根，中频交流旋转阴极，靶材为锌铝靶，工艺气体配置为氩气，氧气，具体比例为氩气：氧气=5:1，溅射压力为3~5×10-3mbar，镀膜厚度为10~20nm；
7）.溅射第七层ZnAlOx层：靶材数量为磁控溅射交流靶2-4根，中频交流旋转阴极，靶材为锌铝靶，工艺气体配置为氩气，氧气，具体比例为氩气：氧气=1:1.67，溅射压力为3~5×10-3mbar，镀膜厚度为10~40nm；
8）. 溅射第八层SiNx层：靶材数量为磁控溅射交流旋转靶2-8根，中频交流旋转阴极，靶材为硅铝靶，工艺气体配置为氩气氮气，具体比例为氩气：氮气=1:1.17，溅射压力为3~5×10-3mbar，镀膜厚度为20~50nm；
9）. 膜层总厚度在85-100nm之间，工艺走速在4-6米/min之间。
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