[发明专利]一种加热旋转衬底台

说明书

本发明公开一种加热旋转衬底台，包括基片架和控制基片架加热、旋转及前后来回移动的控制组件，所述控制组件包括CF法兰、第一驱动组件和移动组件，所述第一驱动组件包括传动轴、齿轮组件和第一驱动电机，所述基片架与传动轴的一端固定连接，所述传动轴的另一端穿过CF法兰通过齿轮组件与第一驱动电机的输出轴固定连接，所述移动组件包括滑座和导向杆，所述导向杆装设于CF法兰上，所述导向杆与传动轴平行设置，所述滑座滑动安装于导向杆上，所述第一驱动电机固定安装于滑座上，所述基片架上设有加热器。本发明能在沉积过程中能对基片进行加热的同时旋转基片，使基片加热均匀，提高膜层的均匀性，提高镀膜质量，有利于制备各种功能膜。

技术领域

本发明涉及溅射设备技术领域，特别涉及一种加热旋转衬底台。

背景技术

众所周知，溅射方法的执行过程如下。在溅射设备的真空室内，将基片设置成与薄膜沉积材料支撑的溅射靶相对，并且它们之间隔开预定距离。在此条件下，诸如惰性气体离子的高能粒子撞击溅射靶，以使溅射粒子（例如靶材的组成原子和离子）从溅射靶中飞出（发射）。然后，所述溅射粒子附着并沉积到基片表面上以形成各种功能膜，根据溅射方法形成在基片上的涂膜具有非常小的厚度和足够强的附着性。相应地，所述溅射方法能够提供具有高品质和高耐用性的各种功能膜。

现有的衬底台通常仅能对基片进行加热，不能同时旋转，这样在膜层沉积的过程中会导致基片加热不均匀，如此便会影响膜层生长的均匀性，降低镀膜质；而衬底台不能前后移动，即基片与靶材之间的距离是固定的，如此镀膜的沉积效率较低。

发明内容

本发明要解决的技术问题是，针对上述现有技术中的不足，提供一种加热旋转衬底台，其能在沉积过程中能对基片进行加热的同时旋转基片，使基片加热均匀，有利于膜层生长，提高膜层的均匀性，提高镀膜质量。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：

一种加热旋转衬底台，包括基片架和控制基片架加热、旋转及前后来回移动的控制组件，所述控制组件包括CF法兰、驱动基片架旋转的第一驱动组件和用于使基片架前后来回移动的移动组件，所述第一驱动组件包括传动轴、齿轮组件和第一驱动电机，所述基片架与传动轴的一端固定连接，所述传动轴的另一端穿过CF法兰通过齿轮组件与第一驱动电机的输出轴固定连接，所述移动组件包括滑座和导向杆，所述导向杆沿水平横向装设于CF法兰上，所述导向杆与传动轴平行设置，所述滑座滑动安装于导向杆上，所述第一驱动电机固定安装于滑座上，所述基片架上设有用于对基片进行加热的加热器。

作为一种优选方案，所述移动组件还包括驱动滑座沿导向杆方向来回移动的第二驱动组件，所述第二驱动组件包括涡轮、蜗杆、丝杆和第二驱动电机，所述丝杆固定安装于滑座上，所述蜗杆套设于丝杆上，所述第二驱动电机固定安装于CF法兰上，所述涡轮与第二驱动电机的输出轴固定连接，所述涡轮和蜗杆相互啮合。

作为一种优选方案，所述导向杆为三个，两个导向杆分设于传动轴的两侧，另外一个导向杆平行设置于传动轴的下方。

作为一种优选方案，所述齿轮组件包括传送齿轮和主动齿轮，所述传动齿轮与传动轴固定连接，所述主动齿轮与第一驱动电机的输出轴固定连接，所述传动齿轮与主动齿轮相互啮合。

作为一种优选方案，所述基片架的外侧周围装设有热屏蔽件。

作为一种优选方案，所述控制组件还包括温控器，所述温控器固定安装于滑座上，所述加热器与温控器电连接。

作为一种优选方案，所述基片架内装设有热电偶传感器，所述热电偶传感器与温控器电连接。

作为一种优选方案，所述基片架与传动轴之间设有冷却块。