[发明专利]氧化铈抛光液及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及抛光液技术领域，公开了氧化铈抛光液及其制备方法和应用。其中，该抛光液含有研磨剂、分散剂、消泡剂和水，其中，研磨剂为氧化铈、氧化镧、氟化镧、氧氟化镧和氧化钛的混合物；分散剂为烯丙基聚氧乙烯醚和/或聚氧乙烯辛基苯酚醚与三乙基己基磷酸、乙烯基双硬脂酰胺、苯乙烯磺酸钠的混合物；消泡剂为聚氧乙烯聚氧丙烯醇胺醚和聚醚二甲基硅氧烷共聚物。将该抛光液应用于玻璃表面进行抛光，抛光效率高，分散能力强以及持久消泡效果好和能够长时间消泡。

技术领域

本发明涉及抛光液技术领域，具体涉及一种氧化铈抛光液及其制备方法和应用。

背景技术

目前，化学机械抛光(CMP)技术是公认的唯一全局平坦化技术，广泛应用于集成电路硅晶片和光学玻璃等先进电子产品中的制造中。而化学机械抛光液是CMP中关键的要素，目前优良的化学机械抛光液主要依赖进口，严重限制了我国精密加工技术的发展。化学机械抛光液是国内的研究热点，目前生产方法主要为将抛光粉和一定比例的助剂以化学分散或机械分散或化学机械相结合方法进行均匀混合。

CN104017500A公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括以下步骤：(1)将混合稀土通过碳酸氢铵与氨水的混合溶液沉淀，陈化后加入混合含氟酸进行氟化，得到氟化的碱式碳酸稀土，其中，混合稀土为氯化镧铈稀土或氯化镧铈镨稀土，混合含氟酸为氢氟酸、氟硅酸的混合酸；(2)将步骤1得到的氟化的碱式碳酸稀土进行多段焙烧，得到混合稀土氧化物，其中，混合稀土氧化物为氧氟化铈与氧化铈的混合物，或氧氟化镧铈与氧化铈的混合物；(3)将步骤2中得到的混合稀土氧化物进行粉碎分级，得到稀土抛光粉，其颗粒粒度为0.3～0.5μm。本发明可制备出对玻璃抛光表面达到埃级、分散均匀、粒径小的超细稀土抛光粉。

CN107118743A公开了一种石油仪器用抛光专用研磨液，由以下重量份的组分组成，氧化铝35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10-15份、聚苯乙烯磺酸钠5-10份、氧化铈11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸钠2-5份、氧化锆1-3份、乙酸乙脂4-9份、十八烷基三甲基溴化胺4-13份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亚砜环己烷4-8份、羟甲基纤维素3-6份、螯合剂2-8份。本发明的制备方法简单，易实现，本发明制备的研磨液的研磨精度和研磨效率均得到提升。

CN104946137A公开了一种高效金刚石喷雾抛光剂的复配方法，它是由纳米金刚石、溶剂、纳米凹凸棒土、膨润土、表面活性剂、分散剂、pH调节剂、加压气体合成，按质量百分比计：纳米金刚石7％～16％、溶剂15％～30％、纳米凹凸棒土6％～17％、膨润土9％～18％、表面活性剂8％～14％、分散剂4％～17％、pH调节剂0.2％～6％、加压气体2％～50％。本发明通过添加纳米凹凸棒土和膨润土制得的喷雾抛光剂配合纸张进行抛光时，纸张不易破损，这样就不需要频繁更换抛光纸，既减少了纸张的浪费又大大节省了时间，抛光效率高，促进了国民经济的发展。

CN104736651A涉及一种添加剂混合物，该添加剂混合物包括聚丙烯酸盐、酸酯、以及消泡剂。还提供了一种抛光组合物以及一种用于抛光玻璃基底的抛光方法。

CN106244023A涉及一种稀土抛光液，由以下组分组成：氧化铈粉末、硫酸镁、檀香油、坡缕石粉末、氧化硅粉末、氧化铬粉末、氨基三亚甲基膦酸、十水四硼酸钠、顺丁烯二酸酐、苯甲酸钠、邻苯二甲酯、羟基乙叉二膦酸、对硝基苯甲酸、聚乙二醇硅氧烷、三羟甲基丙烷、六偏磷酸钠、多菌灵、苄基三苯基溴化膦、苹果酸、辛基酚聚氧乙烯醚、山梨酸钾、乙酸戊酯、葡萄糖酸钠、醇醚磺基琥珀酸单酯二钠盐、甘油二乙酸酯、单烷基醚磷酸酯钾盐、异丙苯磺酸钠、硅氧烷、水。本发明制备工艺方法简单，本发明中的产品具有较好的抛光效果，并具有较好的灭菌功能，其性能也较为优异.对人体伤害小。