[发明专利]一种掩膜版及其控制方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括：相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的功能层；

所述功能层主要由功能颗粒均匀排列而成，且所述功能颗粒在垂直电场的作用下能够发生聚集重排，且所述功能颗粒不透光；

所述第一基板上设置有第一电极，所述第二基板上设置有第二电极；所述第一电极和所述第二电极构成多个均匀分布的垂直电压发生单元；

所述第一电极和所述第二电极均由条状电极构成；

所述条状电极为金属电极；

所述条状电极的宽度为2μm~50μm；

沿所述条状电极的宽度方向上相邻两个条状电极的间距为条状电极的宽度5倍~10倍；

所述第一电极中的条状电极包括：多个等间距平行设置、且至少贯穿所述掩膜版的有效掩膜区域的第一条状电极；以及多个等间距平行设置、且至少贯穿所述掩膜版的有效掩膜区域的第二条状电极；

所述第一条状电极和所述第二条状电极垂直；

所述第二电极中的条状电极包括：与每一所述第一条状电极一一相对设置、且至少贯穿所述掩膜版的有效掩膜区域的多个第三条状电极；以及与每一所述第二条状电极一一相对设置、且至少贯穿所述掩膜版的有效掩膜区域的多个第四条状电极；

相对设置的一组所述第一条状电极和所述第三条状电极构成一个所述垂直电压发生单元；相对设置的一组所述第二条状电极和所述第四条状电极构成一个所述垂直电压发生单元。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述功能层为主要由纳米晶磁颗粒均匀排布而成的纳米晶磁层。

3.一种权利要求1-2任一项所述的掩膜版的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括：

向所述掩膜版的第一电极和第二电极分别输入第一电压和第二电压，以控制部分垂直电压发生单元形成垂直电场，使得形成有垂直电场的区域构成所述掩膜版的遮光区，未形成垂直电场的区域构成所述掩膜版的透光区，所述第一电压与所述第二电压不同。