[发明专利]一种场发射阴极电子源及其阵列在审

专利信息
申请号: 201811006185.1 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN110875165A 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 卢维尔;夏洋 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 发射 阴极 电子 及其 阵列
【权利要求书】:

1.一种场发射阴极电子源,其特征在于,包括:衬底,及设置在所述衬底同一侧的阴极、阴极尖端和栅极;所述阴极、所述阴极尖端和所述栅极均设置在所述衬底的上表面上;所述阴极尖端连接在所述阴极上,所述栅极位于所述阴极尖端远离所述阴极的一侧;所述阴极尖端的电子发射端指向所述衬底的靠近所述栅极的侧面。

2.根据权利要求1所述的场发射阴极电子源,其特征在于,所述栅极数量为2,并且两个所述栅极分别分布在所述阴极尖端的两侧。

3.根据权利要求1所述的场发射阴极电子源,其特征在于,所述阴极尖端的形状为三角状。

4.根据权利要求1所述的场发射阴极电子源,其特征在于,还包括绝缘层,所述绝缘层设置在所述衬底的上表面上,所述阴极、所述阴极尖端和所述栅极均设置在所述绝缘层上。

5.根据权利要求4所述的场发射阴极电子源,其特征在于,所述衬底的材料为硅,所述绝缘层为氧化硅。

6.根据权利要求4所述的场发射阴极电子源,其特征在于,所述绝缘层的厚度为大于或等于290nm。

7.根据权利要求1所述的场发射阴极电子源,其特征在于,采用平面工艺制备。

8.一种场发射阴极电子源阵列,其特征在于,包括:多个权利要求1-7任一项所述的场发射阴极电子源,多个所述场发射阴极电子源并列相接连成一排;多个所述阴极尖端朝向相同。

9.根据权利要求8所述的场发射阴极电子源阵列,其特征在于,同一排中,每个所述场发射阴极电子源的阴极均与其相邻的场发射阴极电子源的阴极相连接或不相连接。

10.根据权利要求8所述的场发射阴极电子源阵列,其特征在于,包括多个相互层叠的电子源排,每个所述电子源排为多个所述场发射阴极电子源并列相接连成一排组成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811006185.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top