[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种对准装置，为了进行基板和掩模的位置对齐而进行对准标记的检测和位置的测量，其特征在于，

该对准装置包括：

升降部件，使基板相对于掩模升降；以及

测量部，利用上述升降部件使上述基板移动到该基板的一部分与上述掩模接触的对准测量位置，并对上述基板的对准标记和上述掩模的对准标记进行拍摄，从而对该基板和该掩模的相对的偏移量进行测量，

该对准装置包括存储与根据上述基板的种类而被设定的多个上述对准测量位置相关的信息的对准测量位置信息存储部。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与上述基板的识别编号、上述基板的种类和该基板的上述对准测量位置相关的信息。

3.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

4.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。

5.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过上述基板的识别编号确认的上述基板的种类和通过上述掩模的识别编号确认的该掩模的种类而被设定成不同。

6.根据权利要求5所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储上述基板的识别编号、上述掩模的识别编号、上述基板的种类、上述掩模的种类和该基板的上述对准测量位置。

7.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

8.根据权利要求5所述的对准装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息，上述掩模的种类包括与掩模的厚度相关的信息。

9.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上成膜蒸镀物质，其特征在于，

该成膜装置包括：

升降部件，使基板相对于掩模升降；

对准测量位置信息存储部，存储利用上述升降部件使上述基板的一部分与上述掩模接触的对准工序中的上述基板的对准测量位置信息；以及

控制部，基于从上述对准测量位置信息存储部读取出的上述对准测量位置信息，对成膜装置进行控制，

上述对准测量位置信息包括基于上述基板的种类而被设定的信息。

10.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与基板的识别编号、基板的种类和该基板的上述对准测量位置相关的信息。

11.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

12.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。

13.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过上述基板的识别编号确认的该基板的种类和通过上述掩模的识别编号确认的该掩模的种类而被设定成不同。

14.根据权利要求13所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储基板的识别编号、掩模的识别编号、基板的种类、掩模的种类和该基板的对准测量位置。