[发明专利]静电吸盘、成膜装置、基板的保持及分离方法、成膜方法

权利要求书

1.一种静电吸盘，用于保持基板，其中，包括：

包括电极部的基板保持部；

向所述电极部施加电压的电压施加部；

对通过所述电压施加部向所述电极部施加的电压进行控制的电压控制部，

所述静电吸盘包括多个基板保持部，

所述电压施加部，向所述多个基板保持部施加用于保持基板的第一电压以及用于分离基板的第二电压，

所述电压控制部对每个所述基板保持部独立地控制所述第二电压的施加，

所述电压控制部，根据所述多个基板保持部分别保持基板的顺序，控制向所述多个基板保持部的每一个施加的所述第二电压的大小。

2.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部对每个所述基板保持部独立地控制所述第二电压的施加开始时刻。

3.如权利要求2所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部以使每一个所述基板保持部的所述第二电压的施加开始时刻不同的方式进行控制。

4.如权利要求2所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部，根据所述多个基板保持部分别保持基板的顺序，对向所述多个基板保持部的每一个施加所述第二电压的施加开始时刻进行控制。

5.如权利要求2所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部以向所述多个基板保持部按顺序施加所述第二电压的方式进行控制。

6.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部对每一个所述基板保持部独立地控制所述第二电压的保持时间。

7.如权利要求6所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部以使每一个所述基板保持部的所述第二电压的保持时间不同的方式进行控制。

8.如权利要求6所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部根据所述多个基板保持部分别保持基板的顺序，控制对所述多个基板保持部的每一个保持所述第二电压的保持时间。

9.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，

所述电压控制部以使每一个所述基板保持部的所述第二电压的大小不同的方式进行控制。

10.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，

所述第二电压是接地电压或者与第一电压极性相反的电压。

11.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上对蒸镀材料进行成膜，其中，包括：

用于保持基板的权利要求1至权利要求10中的任一项所述的静电吸盘；

设置于所述静电吸盘的下方，用于载置掩模的掩模台；

以与所述静电吸盘相向的方式设置于所述掩模台的下方，用于设置收容有蒸镀材料的蒸镀源的蒸镀源设置台。

12.一种基板的保持及分离方法，用于在具有多个基板保持部的静电吸盘保持以及分离基板，其中，包括：

向所述多个基板保持部施加第一电压，使所述多个基板保持部保持基板的阶段；

向所述多个基板保持部施加第二电压，使基板从所述多个基板保持部分离的阶段，

在所述分离的阶段中，对每一个所述基板保持部独立地进行控制而施加所述第二电压，

根据在所述保持的阶段所述多个基板保持部分别保持基板的顺序，在所述分离的阶段，控制向所述多个基板保持部的每一个施加的所述第二电压的大小。

13.如权利要求12所述的基板的保持及分离方法，其中，

在所述分离的阶段，以对每一个所述基板保持部独立地控制所述第二电压的施加开始时刻的方式施加所述第二电压。

14.如权利要求13所述的基板的保持及分离方法，其中，

在所述分离的阶段，以使每一个所述基板保持部的所述第二电压的施加开始时刻不同的方式进行控制。