[发明专利]一种合成炉加热器控制系统在审
申请号: | 201811011309.5 | 申请日: | 2018-08-31 |
公开(公告)号: | CN108827016A | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 袁贤才;甘居富;游书华;彭中;钟政模;王亚萍 | 申请(专利权)人: | 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 |
主分类号: | F27D19/00 | 分类号: | F27D19/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王学强;罗满 |
地址: | 014000 内蒙古自治区*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 合成炉 加热器控制系统 加热器 调功器 接触器 快速熔断器 控制系统 断路器 电源 系统资源 依次连接 有效地 | ||
本发明涉及控制系统技术领域,具体涉及一种合成炉加热器控制系统,其特征在于,包括N个合成炉,每个合成炉包括一个加热器,所述控制系统还包括:电源、第一断路器、第一快速熔断器、第一调功器、N个接触器、N个加热器和PLC控制系统,所述电源依次连接所述第一断路器、第一快速熔断器、第一调功器然后分成N路,每路经过一个接触器连接一个加热器,所述PLC控制系统与所述第一调功器和所述N个接触器相连。合成炉加热器控制系统可以更有效地利用系统资源。
技术领域
本发明涉及一种控制系统,具体涉及一种合成炉加热器控制系统。
背景技术
目前,三氯氢硅的合成工艺主要是将干燥的HCL和少量的H2及烘干的硅粉输入合成炉,在合成炉加热器的加热作用下进行化学反应生成三氯氢硅。现有技术的合成炉加热器控制系统通常采用的方案是由多台电控柜分别对多台合成炉的加热器进行一对一控制,通过加热器对合成炉进行加热。如图1所示,每个电控柜(点划线所示)至少包括一个断路器、一个快速熔断器、一个调功器。
然而实际情况是一旦合成炉的温度达到预设温度,化学反应开始进行,加热器就不需再工作;仅在由于某种原因,例如硅粉添加过多或冷却水流量未控制好等造成合成炉内温度下降时,才需要再次开启电感加热器以使合成炉的温度回到之前的反应温度。因此,现有技术中的电控柜大部分时间处于空闲状态,造成系统资源浪费。因此,需要一种控制系统,能够更有效地利用系统资源。
发明内容
有鉴于此,本申请提供一种合成炉加热器控制系统,能够更有效地利用系统资源。
为解决以上技术问题,本发明提供的技术方案是一种合成炉加热器控制系统,包括N个合成炉,每个所述合成炉包括一个加热器,其中N为大于2的整数,所述控制系统还包括:电源、第一断路器、第一快速熔断器、第一调功器、N个接触器、N个加热器和PLC控制系统,所述电源依次连接所述第一断路器、第一快速熔断器、第一调功器然后分成N路,每路经过一个接触器连接一个加热器,所述PLC控制系统与所述第一调功器和所述N个接触器相连。
进一步地,所述控制系统还包括第二断路器、第二快速熔断器、第二调功器和另N个接触器,其中所述电源还依次连接所述第二断路器、第二快速熔断器、第二调功器然后分成N路,每路经过一个接触器连接相应的所述一个加热器,所述第二调功器和所述另N个接触器与所述PLC控制系统相连。
进一步地,所述控制系统还包括DCS控制系统,所述N个合成炉与所述DCS控制系统相连,所述DCS控制系统与所述PLC控制系统相连,其中,所述PLC控制系统包括以太网通讯模块和光端机,所述PLC控制系统通过所述以太网通讯模块和光端机与所述DCS控制系统通信。
进一步地,所述系统还包括一台调功柜,所述第一断路器、所述第二断路器、所述第一快速熔断器、所述第二快速熔断器、所述第一调功器、所述第二调功器、所述N个接触器、所述另N个接触器和所述PLC控制系统位于所述一台调功柜之中。
进一步地,所述PLC控制系统包括触摸显示屏和两个串口,所述两个串口中的一个串口与所述触摸显示屏通信,另一个串口作为MODBUS主站与所述第一调功器和所述第二调功器通信。
进一步地,所述电源柜在输出电流≥2倍额定值时截止输出;所述电源柜包括晶闸管,所述晶闸管包括散热器,所述电源柜在所述晶闸管的散热器的表面温度≥75℃时截止输出。
进一步地,所述系统还包括防爆接线盒,所述电控柜通过所述防爆接线盒连接所述加热器,所述防爆接线盒采用隔爆型,材质为不锈钢,所述防爆接线盒带四个防爆格兰头,其中2个格兰头用于接入来自电控柜的两根电缆,另外2个格兰头用于接入来自所述加热器的两根电缆。
进一步地,所述系统还包括N个防爆操作柱,每个防爆操作柱包括多个按钮,每个按钮均与所述PLC控制系统相连。
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