[发明专利]液晶显示装置及其制造方法在审
申请号: | 201811012405.1 | 申请日: | 2018-08-31 |
公开(公告)号: | CN109471303A | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 水崎真伸 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 液晶显示装置 液晶层 取向控制层 液晶材料 取向膜 聚合性单体 液晶组成物 对向基板 方式涂布 高对比度 取向控制 阵列基板 块基板 聚合 制造 | ||
在获得高对比度的液晶显示装置中谋求显示可靠性的提高。液晶显示装置包括:一对基板10、20;液晶层31,设置在所述一对基板10、20之间,且含有液晶材料30;以及取向控制层41、42,因形成液晶层31的液晶组成物50中添加的聚合性单体40聚合而以与液晶层31接触的方式形成,并以相对于两块基板10、20成规定角度的方式,对液晶材料30进行取向控制,一对基板10、20中的一块基板例如对向基板20具有以与取向控制层42接触的方式涂布形成的取向膜29,另一块基板例如阵列基板10不具有取向膜。
技术领域
本说明书所公开的技术涉及一种液晶显示装置及其制造方法。
背景技术
液晶显示装置包括显示图像等信息的液晶面板,液晶面板大致采用在一对玻璃基板之间密封有液晶层的结构。一对基板包含呈阵列状(array shape)地设置有开关元件(例如薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT))及像素电极等的阵列基板(像素电极基板、有源矩阵基板、元件基板)、及与该阵列基板相对地配置的对向基板,通过在设置于阵列基板的公共电极或设置于对向基板的对向电极与像素电极之间施加电压,使形成液晶层的液晶材料(液晶分子)的取向发生变化,对通过液晶层的光的量进行调整,从而使液晶面板显示图像。
为了对未施加电压的状态下的液晶材料的取向进行控制,以往,在各基板的最靠液晶层侧涂布包含聚酰亚胺(Polyimide,PI)等的取向膜形成树脂后,进行高温处理(煅烧)而形成取向膜,通过该取向膜的记忆性来使液晶材料取向。对于此种包括现有类型的取向膜的结构,通过调整取向膜形成树脂的材料设计,并进一步根据需要而实施摩擦或光照射等取向处理,能够提高液晶层中的液晶材料的取向度(取向秩序度)而获得高对比度,并且能够较任意地调整取向角度。但是,为了形成取向膜,不仅需要大量的工序,而且产生了涂布不均或由摩擦取向处理引起的扬尘等问题。因此,提出了如下技术(以下,称为“无取向膜液晶取向技术”),即,在液晶组成物中添加聚合性单体等,在将该液晶组成物封入至基板之间后,使该聚合性单体等聚合,在液晶层与基板之间的界面上选择性地形成聚合物层,从该聚合物层的表面派生出取向表现性官能基而使液晶材料取向,由此,无需现有类型的取向膜。
另一方面,随着显示画面的大型化等的要求,正继续开发可获得较高的对比度与较广的视角的水平取向模式或垂直取向模式。其中,已知多畴垂直取向(MVA:Multi-domainVertical Alignment)模式是在透明电极上设置取向限制用构造物等,按画面的区域来改变液晶取向的模式,其可实现广视角化。另一方面,取向限制用构造物会导致开口率下降或产生漏光,但若为了抑制这些不利情况而减少取向限制用构造物,则会导致液晶的响应速度下降。因此,提出了如下方法,即,将添加有聚合性单体等的液晶组成物封入至基板之间,并在已使液晶材料取向的状态下,使聚合性单体聚合(下述专利文献1)。该技术是在现有类型的取向膜上形成聚合物取向维持(PSA:Polymer Sustained Alignment)层而对液晶赋予预倾角(预先倾斜角),减少取向限制用构造物,并且减轻液晶材料响应速度的延迟,其被称为“PSA技术”。
现有技术文献
专利文献
[专利文献1]
国际专利公开第2010/116551号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
所述无取向膜液晶取向技术无法进行摩擦等取向处理,需要仅通过液晶组成物的材料设计来控制液晶的取向,因此,难以充分地使液晶取向,对比度的提高成为问题。
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