[发明专利]下料组件、烹饪器具、运行控制方法和计算机存储介质

权利要求书

1.一种下料组件，其特征在于，包括：

挡件，能在遮挡下料口以使所述下料口关闭的位置和避开所述下料口以使所述下料口敞开的位置之间运动，以相应调整所述下料口的开度；

位置传感器，用于检测所述挡件的位置，

计时器，计算所述挡件处于敞开位置的下料时间，根据所述下料口的开度大小和所述下料时间来确定流经所述下料口的物料的流量。

2.根据权利要求1所述的下料组件，其特征在于，

所述位置传感器包括一个光学传感器，所述光学传感器设有接收端和发射端，所述接收端与所述发射端设于所述挡件的运动平面的两侧，所述发射端用于生成辐射信号，所述挡件运动至遮挡所述辐射信号的位置时，阻断所述接收端接收所述辐射信号。

3.根据权利要求1所述的下料组件，其特征在于，

所述挡件沿运动方向设有多个孔径不同的通孔，所述位置传感器包括一个光学传感器，所述光学传感器设有接收端和发射端，所述发射端发出的辐射信号经任一所述通孔后被所述接收端获取，所述接收端获取的辐射信号与所述通孔的孔径成正比，以根据所述通孔的孔径确定所述挡件的运动位置。

4.根据权利要求1所述的下料组件，其特征在于，

所述位置传感器包括一个光学传感器，所述光学传感器设有接收端和发射端，所述接收端与所述发射端设于所述挡件的运动平面的同侧，所述发射端用于生成辐射信号，所述挡件运动至遮挡所述辐射信号的位置时，所述辐射信号经所述挡件反射至所述接收端。

5.根据权利要求4所述的下料组件，其特征在于，

所述挡件上能够反射所述辐射信号的一侧设有多个高度位置不同的质量块，所述辐射信号经不同的所述质量块反射回所述接收端的总时长不相同，所述位置传感器根据所述辐射信号的发射时刻和接收时刻之间的时间差确定所述挡件的运动位置。

6.根据权利要求4所述的下料组件，其特征在于，

所述挡件包括一个楔形结构，所述楔形结构的斜面面向所述发射端设置，所述辐射信号经所述斜面反射回所述接收到的总时长与所述挡件的运动位置之间线性相关。

7.根据权利要求1所述的下料组件，其特征在于，

所述位置传感器包括一个磁力传感器，所述挡件包括磁性层，所述挡件在遮挡所述下料口的位置与避开所述下料口的位置之间运动时，所述磁力传感器获取所述磁性层的磁感信号，以确定所述挡件的运动位置。

8.根据权利要求1所述的下料组件，其特征在于，

所述位置传感器包括一个电磁感应线圈，所述挡件包括导磁层，所述挡件在遮挡所述下料口的位置与避开所述下料口的位置之间运动时，所述电磁感应线圈内流通的电流随所述导磁层的位置发生变化，所述位置传感器根据所述电流的变化确定所述挡件的运动位置。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的下料组件，其特征在于，还包括：

驱动机构，靠近所述下料口设置，所述挡件与所述驱动机构的驱动端相连接，所述驱动端用于控制所述挡件伸入或旋入所述下料管以减小所述下料口的开度，所述驱动端还用于控制所述挡件伸出于或旋出所述下料口以增大所述下料口的开度。

10.一种烹饪器具，其特征在于，包括：

储料部，用于存储待烹饪的物料；

如权利要求1至9中任一项所述的下料组件，连接至所述储料部与烹饪部之间，用于将所述储料部内的物料定量输送至所述烹饪部内；

所述烹饪部，用于对完成输送的物料进行烹饪。

11.一种下料组件的运行控制方法，其特征在于，包括：

在控制挡件在遮挡下料口的位置和敞开所述下料口的位置之间运动时，检测所述挡件的位置，以实时确定所述挡件的位置对应的下料口的开度大小；

计算所述挡件处于敞开所述下料口的位置的时间，记作下料时间；

根据所述开度大小和所述下料时间来确定流经所述下料口的物料的流量。