[发明专利]掩膜板排版方法有效

专利信息
申请号: 201811014280.6 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109182964B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 王恩霞;欧凌涛;李伟丽;吕孝鹏;甘帅燕;王亚 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 11258 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 李国祥<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 065500河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 预定距离 蒸镀 定位区域 固定区域 连接区域 预设区域 预设条件 排版 边缘距离 错位设置 间隔设置 覆盖
【权利要求书】:

1.一种掩膜板排版方法,其特征在于,包括:

提供框架,具有间隔设置的预设区域、位于相邻两个所述预设区域之间的定位区域以及与所述预设区域和所述定位区域错位设置的固定区域,相邻两个所述预设区域之间的间距为第一预定距离L1;

对应于所述定位区域设置覆盖掩膜板,所述覆盖掩膜板的边缘距离所述定位区域的中心间距为第二预定距离L2;

根据预设条件将蒸镀掩膜板设置于所述固定区域,相邻两个所述固定区域之间的间距为第三预定距离L3,所述第三预定距离L3等于所述第一预定距离L1与所述第二预定距离L2的差值;

所述预设条件包括:所述框架具有用于连接所述蒸镀掩膜板的连接区域,所述连接区域在所述固定区域内,所述连接区域的边缘至所述蒸镀掩膜板的边缘间距为第一距离D1,所述蒸镀掩膜板的蒸镀区域的边缘与所述蒸镀掩膜板的边缘间距为第二距离D2;所述第一距离D1小于所述第二距离D2;

所述预设条件还包括:所述覆盖掩膜板与所述蒸镀掩膜板具有部分交叠,所述覆盖掩膜板靠近所述蒸镀区域的边缘与所述蒸镀区域的边缘之间具有第三距离D3;所述定位区域的边缘与所述覆盖掩膜板的边缘之间具有第四距离D4,所述第三距离D3大于等于所述第四距离D4。

2.根据权利要求1所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述第一距离D1为1~1.5mm。

3.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述第二距离D2大于1.5mm。

4.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述固定区域的宽度小于所述预设区域的宽度。

5.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述蒸镀区域具有辅助像素蒸镀区,所述辅助像素蒸镀区的边缘与所述蒸镀掩膜板的边缘间距为所述第二距离D2。

6.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述框架包括设置于所述固定区域的凸起以及设置于所述定位区域的凹槽,所述蒸镀掩膜板固定于所述凸起上,所述覆盖掩膜板设置于所述凹槽内。

7.根据权利要求6所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述连接区域内设置焊点,所述蒸镀掩膜板通过所述焊点固定于所述凸起,所述焊点的边缘至所述蒸镀掩膜板的边缘间距为所述第一距离D1。

8.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述蒸镀掩膜板为条形。

9.根据权利要求8所述的掩膜板排版方法,其特征在于,多个所述预设区域沿所述蒸镀掩膜板的宽度方向间隔设置。

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