[发明专利]用于显示装置的盖窗和该盖窗的制造方法

权利要求书

1.一种用于显示装置的盖窗，所述盖窗包括：

透光基底；

模制层，位于所述透光基底的边缘的至少一部分上，并具有形成在其表面上的不均匀图案；

无机材料图案层，位于所述模制层的第一表面上，并形成为比所述模制层窄一定余量以暴露所述模制层的所述第一表面的部分；以及

印刷层，位于所述模制层的所述第一表面上，并覆盖所述模制层的所述第一表面的被暴露部分。

2.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述被暴露部分包括所述模制层在平面上的内侧的一部分。

3.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层覆盖所述无机材料图案层的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的盖窗，其中，所述印刷层完全覆盖所述模制层和所述无机材料图案层。

5.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层的内线在平面上与所述模制层的内线叠置。

6.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述模制层仅位于所述透光基底的一对相对边缘上。

7.根据权利要求6所述的盖窗，其中，仅具有平整表面的平坦模制层位于所述透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

8.根据权利要求6所述的盖窗，其中，所述印刷层位于所述透光基底的所有边缘上。

9.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层包括用于阻挡可见光的颜色。

10.根据权利要求1所述的盖窗，所述盖窗还包括掩模印刷层，所述掩模印刷层位于所述无机材料图案层上，并且与所述无机材料图案层完全叠置。

11.根据权利要求10所述的盖窗，其中，所述印刷层覆盖所述掩模印刷层的至少一部分。

12.一种制造用于显示装置的盖窗的方法，所述方法包括以下步骤：

在透光基底的边缘的至少一部分上形成具有不均匀图案化表面的模制层；

将无机材料沉积到所述透光基底上，以形成覆盖所述透光基底的整个表面和所述模制层的第一表面的无机材料沉积层；

在所述无机材料沉积层与所述模制层叠置的区域的一部分上形成第一印刷层；

使用所述第一印刷层作为掩模蚀刻所述无机材料沉积层，以去除所述无机材料沉积层的其上不形成有所述第一印刷层的部分，从而形成比所述模制层窄一定余量以暴露所述模制层的所述第一表面的部分的无机材料图案层；以及

形成第二印刷层，所述第二印刷层覆盖所述模制层的所述第一表面的通过去除所述无机材料沉积层而被暴露的所述部分。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过印刷具有用于阻挡可见光的颜色的墨水来形成所述第一印刷层和所述第二印刷层。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述模制层的步骤包括使用光照射可光固化的树脂。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，仅在所述透光基底的一对对应的边缘上形成所述模制层。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，具有平坦表面的平坦模制层位于所述透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

17.根据权利要求15所述的方法，其中，所述第二印刷层位于所述透光基底的所有边缘上。

18.根据权利要求12所述的方法，其中，蚀刻所述无机材料沉积层的步骤暴露所述模制层在平面上的内侧的至少一部分。