[发明专利]一种适用于大温差工作场景的自动曝光方法有效

专利信息
申请号: 201811021167.0 申请日: 2018-09-03
公开(公告)号: CN108900783B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 曹中祥;王立;梁潇;李圣龙;宋玉志;吕伟振;李全良 申请(专利权)人: 北京控制工程研究所
主分类号: H04N5/235 分类号: H04N5/235
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 陈鹏
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 温差 工作 场景 自动 曝光 方法
【权利要求书】:

1.一种适用于大温差工作场景的自动曝光方法,其特征在于:包括如下步骤:

S1,相机采用纳秒级曝光时间拍摄一幅图像,将该幅图像灰度均值作为背景灰度Gd;

S2,相机按照当前曝光时间Ti0拍摄图像,计算图像灰度均值为Gm;所述当前曝光时间Ti0的初始值为设定的默认曝光时间;

S3,计算Gm-Gd,若G0Gm-GdG1,则目标曝光时间Tit为当前拍摄图像的曝光时间,相机按照目标曝光时间Tit进行拍照;否则,进入S4;所述G0、G1分别为设定的图像灰度均值过暗阈值和图像灰度均值过亮阈值;

S4,若Ga≤Gm-Gd,更新目标曝光时间Tit为Tit=(Gt-Gd)/(Gm-Gd)*Ti0;若GaGm-Gd,更新目标曝光时间Tit为Tit=2*Ti0;所述Ga为设定的图像线性区判定阈值;其中,Gt为图像上ROI区域的灰度均值;

S5,按照更新的目标曝光时间Tit拍摄图像,更新图像灰度均值Gm,返回S3。

2.根据权利要求1所述的自动曝光方法,其特征在于:G0GtG1。

3.根据权利要求1所述的自动曝光方法,其特征在于:所述的纳秒级曝光时间为5~25ns。

4.根据权利要求1所述的自动曝光方法,其特征在于:所述的纳秒级曝光时间由FPGA控制实现。

5.根据权利要求4所述的自动曝光方法,其特征在于:所述的FPGA为A3PE3000L-1FG484M。

6.根据权利要求1所述的自动曝光方法,其特征在于:所述目标曝光时间Tit为0.01ms~655.36ms。

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