[发明专利]一种三氟甲磺酸铪催化的硅醚保护基脱除方法

说明书

本发明提供了一种三氟甲磺酸铪催化的硅醚保护基脱除方法，以0.2mol‰‑3mol％的三氟甲磺酸铪为催化剂，以硅醚保护的羟基化合物为底物，以常规AR甲醇作为溶剂，在室温下0.5‑16小时即可高效脱除近50种底物的各种硅醚保护基。粗产物经过常规硅胶柱层析纯化可高产率得到42种硅醚保护基脱除产物。通过调整催化剂用量，Hf(OTf)₄催化剂可以实现对1°,2°,3°烷基TBS以及芳基TBS保护基的区域选择性脱除。此外，在适当的当量范围，Hf(OTf)₄催化剂还可以实现1)对不同种类硅基保护基的化学选择性脱除；2)在不影响绝大多数常见羟基保护基的情况下，对1°TBS保护基的化学选择性脱除。

技术领域

本发明属于有机合成中的官能团保护基脱除技术领域，涉及一种高效且具有区域和化学选择性的三氟甲磺酸铪催化的硅醚保护基脱除方法。

背景技术

硅醚保护基，如三乙基硅醚(TES),二甲基叔丁基硅醚(TBS),三异丙基硅醚(TIPS),以及二苯基叔丁基硅醚(TBDPS)等是有机合成领域中最为常用的羟基保护基。目前，常见的硅醚保护基脱除方法主要包括质子酸和含氟试剂的方法。此外，还有报道使用碱性、还原以及氧化试剂的硅醚脱除方法。但是，这些方法存在的一个最大的问题是需要使用过量的试剂进行反应。因此，对含有多个硅醚保护基的化合物进行选择性的脱除难度非常大。

近年来，有大量文献报道使用各种金属路易斯酸，如Sc(OTf)₃,InCl₃,ZnBr₂,Ce(OTf)₄,ZrCl₄,SbCl₅,SnCl₂·6H₂O,NiCl₂·6H₂O,PMA,CuBr₂,FeCl₃,Fe(OTs)₃,SmCl₃,CuSO₄·5H₂O,AlCl₃·6H₂O,Bi(OTf)₃,NaAuCl₄·2H₂O,and Zn(OTf)₂等对硅醚保护基进行脱除。但是，绝大多数的金属路易斯酸催化剂都需要使用5-30mol％当量，而能够在1mol％以下对1°TBS实现脱除的仅有Sc(OTf)₃和NaAuCl₄·2H₂O。其中，目前报道的最为高效的NaAuCl₄·2H₂O催化剂可以在0.5mol％当量水平实现对1°TBS的脱除，由此可以有效提高对硅醚保护基脱除的区域和化学选择性。但是，由于金催化剂价格昂贵，该催化的在实际应用，特别是大量合成中的使用势必受到极大的限制。因此，寻找更为高效、同时价格更为低廉的金属路易斯酸催化剂，对于有机合成中常规硅醚脱除和复杂多羟基化合物合成中选择性脱硅醚脱除都具有重要的实际应用价值。

发明内容

本发明的目的是为羟基硅醚保护基脱除反应找到了一种高效和具有高选择性的金属路易斯催化剂，建立最优化的反应体系，得到相应的反应条件和工艺。