[发明专利]消单色像差大视场双级联变焦透镜及其设计方法有效
申请号: | 201811025893.X | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109031660B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 郑国兴;李嘉鑫;邓娟;邓联贵;李子乐;陶金;武霖;刘子晨;吴伟标;毛庆洲 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B1/00 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 俞琳娟 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单色 像差大 视场 级联 变焦 透镜 及其 设计 方法 | ||
1.一种消单色像差的大视场双级联变焦透镜,其特征在于,包括:
石英玻璃;
第一纳米砖阵列结构,形成在所述石英玻璃的一侧表面,用以校正透镜在大视场下的像差;以及
第二纳米砖阵列结构,形成在所述石英玻璃的另一侧表面,用以实现平行光束的聚焦,
其中,所述第一纳米砖阵列结构和所述第二纳米砖阵列结构均由纳米砖周期性排列形成,并且所述纳米砖为长方体形,长宽高均为亚波长尺寸,
所述第一纳米砖阵列结构和所述第二纳米砖阵列结构上纳米砖的相位分布是基于优化扫描后的偶次多项式的各项系数选取:
设定透镜的相关参数,然后基于光线追迹的方法经由优化扫描得到偶次多项式的各项系数,优化的目标是寻找使得透镜在大角度入射下的光斑直径最小的最优解,根据优化得到的各项系数,设计所述第一纳米砖阵列结构和所述第二纳米砖阵列结构的几何参数和相位分布,
纳米砖对应相位变化的几何参数如下表所示:
Lx(nm) 55 45 60 170 110 100 95 85 135 115 110 100 165 140 135 120 Ly(nm) 105 170 165 125 85 110 125 170 75 105 120 165 75 95 110 140 X-Phase 0 0 0 0 π/2 π/2 π/2 π/2 π π π π 3π/2 3π/2 3π/2 3π/2 X-T(%) 96 96 95 73 72 74 77 83 55 55 55 56 67 66 69 65 Y-Phase 0 π/2 π 3π/2 0 π/2 π 3π/2 0 π/2 π 3π/2 0 π/2 π 3π/2 Y-T(%) 92 65 60 74 91 62 56 73 93 62 57 77 92 71 55 74
。
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