[发明专利]感光性组合物和其中使用的光聚合引发剂有效
申请号: | 201811026248.X | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109471330B | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 田所惠典;盐田大 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;C07C251/66 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 组合 其中 使用 聚合 引发 | ||
1.一种感光性组合物,其包含(A)光聚合引发剂和(B)光聚合性化合物,其中,所述(A)光聚合引发剂包含下述式(1)表示的化合物,
[化学式1]
所述式(1)中,Ra1各自独立地为氢原子、硝基、或1价有机基团,Ra2和Ra3各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的链状烷氧基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子,Ra2与Ra3可以相互键合而形成环,Ra4为1价有机基团,Ra5为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1以上且20以下的脂肪族烃基、或可以具有取代基的芳基,n1为0以上且4以下的整数,n2为0或1,
所述式(1)表示的化合物满足下述1)~3)中的至少一项:
1)n1为1以上且4以下的整数,Ra1中的至少1个为包含HX2C-或H2XC-表示的基团的取代基;
2)Ra4为包含HX2C-表示的基团的取代基;
3)Ra5为包含HX2C-表示的基团的取代基,
其中,X各自独立地为卤素原子。
2.如权利要求1所述的感光性组合物,其中,所述1)的情况下,所述Ra1为包含HX2C-或H2XC-表示的基团的卤代烷氧基、或者具有包含HX2C-或H2XC-表示的基团的卤代烷氧基的基团,
所述2)或3)的情况下,所述Ra4或Ra5为具有包含HX2C-表示的基团的卤代烷氧基的基团。
3.如权利要求2所述的感光性组合物,其中,具有卤代烷氧基的所述基团是被卤代烷氧基取代的芳香族基团。
4.如权利要求3所述的感光性组合物,其中,所述被卤代烷氧基取代的芳香族基团为下述式(1-a)表示的基团,
[化学式2]
所述式(1-a)中,Ra6为包含HX2C-或H2XC-表示的基团的卤代烷基,Ra7为1价取代基,*为化学键,n3为1或2,n3+n4为1以上且5以下的整数。
5.如权利要求1~4中任一项所述的感光性组合物,其中,X为氟原子。
6.如权利要求1~5中任一项所述的感光性组合物,其中,所述(A)光聚合引发剂还包含酰基氧化膦系光聚合引发剂。
7.一种化合物,其由下述式(1)表示,
[化学式3]
所述式(1)中,Ra1各自独立地为氢原子、硝基、或1价有机基团,Ra2和Ra3各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的链状烷氧基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子,Ra2与Ra3可以相互键合而形成环,Ra4为1价有机基团,Ra5为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1以上且20以下的脂肪族烃基、或可以具有取代基的芳基,n1为0以上且4以下的整数,n2为0或1,
并且,所述式(1)表示的化合物满足下述1)~3)中的至少一项:
1)n1为1以上且4以下的整数,Ra1中的至少1个为包含HX2C-或H2XC-表示的基团的取代基;
2)Ra4为包含HX2C-表示的基团的取代基;
3)Ra5为包含HX2C-表示的基团的取代基,
其中,X各自独立地为卤素原子。
8.一种光聚合引发剂,其包含权利要求7所述的化合物。
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