[发明专利]一种Logo褪镀工艺

说明书

本发明提供了一种Logo褪镀工艺，包括以下步骤：第一步、将产品放入褪镀液A中浸泡褪除PVD膜层表面氧化物；第二步、将产品放入褪镀液B中浸泡褪除PVD膜层；第三步、将产品放入褪镀液C中浸泡褪除保护油墨；第四步、将浸泡后的产品进行清洗，即得褪镀后的产品；所述褪镀液A以质量百分含量计包括如下组分：无机碱10％‑20％，碳酸盐1％‑2％，助剂1％‑3％以及余量的水。采用本发明的褪镀工艺达到了很好的褪镀效果且可实现自动化作业，使产品良率保持在88％左右；所述褪镀液A、B和C对产品褪镀时温度低、褪镀时间短，从而便于节约能源、降低作业风险以及提高褪镀效率。

技术领域

本发明涉及Logo加工技术领域，具体涉及一种Logo褪镀工艺。

背景技术

随着社会的进步，玻璃已经被用作手机后盖，而且成为一种时尚，与传统塑料和金属手机后盖相比，玻璃后盖有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、信号传输强等优点。传统Logo方式采用的为印刷银色油墨方法或者电镀铝再印油墨的方法，此方式出的Logo不美观，台阶位大，没有金属质感。后来，制备Logo采用的是镂空工艺：丝印保护油墨；清洗；电镀铝、钛；褪镀保护油墨。而新型的Logo制备方式采用的是实心工艺：电镀铝、钛；再丝印保护油墨(Logo外形)；然后，先褪除Logo以外的铝、钛；最后再褪除保护油墨。采用此实心工艺做出的Logo外观漂亮，台阶位小，金属质感强；与之前的镂空工艺相比有很多优势。

但是，在实心工艺中，如何褪除Logo以外的铝、钛和保护油墨是影响手机玻璃后盖上Logo品质的重要因素。对于这个褪镀问题，技术人员也做了一些研究。如申请号为201410387687.9的发明专利公开了一种蓝宝石晶片褪镀工艺，包括如下步骤：第一步、高温脱墨，将蓝宝石晶片加热至450℃～480℃；第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80℃～100℃；第三步、脱膜，使用质量比100％的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗；第四步、漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗；第五步、清洗，使用质量比为10％～15％的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗；第六步、去残留，使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡；第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗。

如申请号为201710216595.8的发明专利公开了一种光学镀膜褪镀工艺，包括以下步骤：S1：设计遮挡图案并网版：使用CAD、COREIDRAW软件进行设计，然后进行图案输出和菲林，再将菲林图案在网版上进行显影，显影的温度为25℃-30℃，显影时间为25min-35min；S2：印刷：调试好印刷机，将网版安装在印刷机网框臂上固定，然后将特性油墨倒入网版上并均匀涂抹，再将未电镀产品放置在印刷台上，使用印刷机将网版上的图案印刷于未电镀产品上；S3：干燥固化；S4：电镀：调试好镀膜机，将膜料放入镀膜机内，然后将未电镀产品固定在镀膜机上，使用镀膜机对未电镀产品进行电镀处理；S5：清洗：将产品放入清水清洗，清洗时间为15min-20min，将油墨洗净，即可得褪镀产品。

除此之外，还有其他的褪镀工艺，现有的此类技术对产品褪镀时虽可以褪除PVD膜层和保护油墨，但是还存在以下缺陷：1、褪镀温度高：增加能源浪费和作业风险；2、褪镀时间长：降低褪镀效率。

综上所述，急需一种Logo褪镀工艺以解决现有技术中存在的问题。

发明内容

本发明目的在于提供一种Logo褪镀工艺，具体技术方案如下：

一种Logo褪镀工艺，包括以下步骤：

第一步、将产品放入褪镀液A中浸泡褪除PVD膜层表面氧化物；

第二步、将产品放入褪镀液B中浸泡褪除PVD膜层；

第三步、将产品放入褪镀液C中浸泡褪除保护油墨；

第四步、将浸泡后的产品进行清洗，即得褪镀后的产品；

所述褪镀液A以质量百分含量计包括如下组分：无机碱10％-20％，碳酸盐1％-2％，助剂1％-3％以及余量的水。