[发明专利]差动泵送反应气体喷射器有效
申请号: | 201811027616.2 | 申请日: | 2015-08-12 |
公开(公告)号: | CN109402637B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 伊凡·L·贝瑞三世;索斯藤·利尔;肯尼思·里斯·雷诺兹 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C23F4/00;H01J37/32;H01J37/36 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠;张华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 差动 反应 气体 喷射器 | ||
1.一种喷射头,其用于提供反应物至衬底的表面,所述喷射头包括:
朝向衬底的区,该朝向衬底的区包括:
(i)第一反应物输送管道的第一反应物出口区,和
(ii)配置为耦合到第一真空管道的第一抽吸区;以及
覆盖所述第一反应物输送管道和所述第一真空管道的外壳,其中所述外壳包括上表面,所述上表面与所述朝向衬底的区相对设置,其中,所述上表面涂覆有抗溅射材料。
2.如权利要求1所述的喷射头,其中,所述抗溅射材料包括无定形碳。
3.如权利要求1所述的喷射头,其中,所述抗溅射材料包括硅。
4.如权利要求1所述的喷射头,其中,所述抗溅射材料包括氧化硅。
5.如权利要求1所述的喷射头,其中,所述抗溅射材料包括铝。
6.如权利要求1所述的喷射头,其中,所述抗溅射材料包括氧化铝。
7.如权利要求1所述的喷射头,所述朝向衬底的区还包括第二反应物输送管道的第二反应物出口区。
8.如权利要求7所述的喷射头,其中,所述第一反应物出口区将第一反应物输送到所述衬底的所述表面并且所述第二反应物出口区将第二反应物输送到所述衬底的所述表面,所述第一反应物和第二反应物彼此不同。
9.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,还包括加热所述喷射头的加热器。
10.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,还包括冷却所述喷射头的冷却元件。
11.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,还包括移动机构,所述移动机构在平行于所述衬底的所述表面的平面内移动所述喷射头的所述朝向衬底的区。
12.如权利要求11所述的喷射头,其中,所述移动机构包括允许所述喷射头的所述朝向衬底的区在所述平面内移动的枢转点。
13.如权利要求12所述的喷射头,其中,所述喷射头具有长度和宽度,每个都在平行于所述衬底的所述表面的平面中测量,其中所述喷射头的所述宽度沿着所述喷射头的所述长度变化。
14.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,其中,所述喷射头具有长度和宽度,每个都在平行于所述衬底的所述表面的平面中测量,其中所述喷射头的宽度沿着所述喷射头的所述长度变化。
15.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,其中,所述第一抽吸区具有基本上矩形的横截面。
16.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,所述朝向衬底的区还包括所述第一反应物输送管道的第二反应物出口区或第二反应物输送管道的第二反应物出口区,其中所述第一抽吸区基本上围绕所述第一反应物出口区和所述第二反应物出口区。
17.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,所述朝向衬底的区还包括第二抽吸区,所述第二抽吸区配置成耦合到所述第一真空管道或第二真空管道,其中所述第一抽吸区基本上围绕所述第一反应物出口区,并且其中所述第二抽吸区基本上围绕所述第一抽吸区。
18.如权利要求17所述的喷射头,所述朝向衬底的区还包括第三抽吸区,所述第三抽吸区配置成耦合到所述第一真空管道、所述第二真空管道或第三真空管道,其中所述第三抽吸区基本上围绕所述第二抽吸区。
19.如权利要求1-8中任一项所述的喷射头,其中所述喷射头包括左部分和右部分,所述左部分和右部分各自包括近似半圆形的形状,其中所述左部分和右部分中的每一个配置为枢轴打开和关闭,其中当所述左部分和右部分闭合在一起时,所述左部分和右部分一起形成近似圆形的形状。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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