[发明专利]一种高保湿抗蓝光防辐射面膜基布及其制作方法和应用

权利要求书

1.一种高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)纤维的制备：将叶黄素和儿茶素按1:1～5:1进行混合，混合后按照质量比1：10的比例加入到配制的纤维素纺丝液中混合改性，共混后进行湿法纺丝，得到功能性纤维；

(2)膜布的制备：加入上述功能性纤维20％～50％、海藻纤维50％～80％进行共混，经纤维开松、混合、梳理成网，水刺加固制成密度为20～50g/m²的非织造布；经烘干卷绕成型，再经冲切工艺制得抗蓝光防辐射面膜基布。

2.根据权利要求1所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于：步骤(1)中的儿茶素通过萃取得到，具体为将绿茶叶采用凝胶柱层析技术进行分离提纯，以20％的丙酮/水作梯度洗脱，并结合液相色谱分离纯化得到儿茶素。

3.根据权利要求2所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于：所得到的儿茶素纯度为99％以上。

4.根据权利要求1所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于：步骤(1)中所述叶黄素采用超临界CO₂萃取法从万寿菊中萃取，萃取压力为45Mpa，萃取温度设置为50℃，分离压力为8Mpa，分离温度为55℃；接着加入分离釜中进行二次分离提取叶黄素，此时分离压力设置为4Mpa，分离温度为20℃，其余剩余收集的为杂质，再经氢氧化钾皂化可得到叶黄素树脂。

5.根据权利要求4所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于：所述叶黄素提取率为95.7％。

6.根据权利要求1所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布的制作方法，其特征在于：步骤(2)中水刺加固工艺经过5-7道水刺；其中第一道水刺水针压力为1.5Mpa，第二道水刺水针压力为4.5Mpa，第三道水刺水针压力为5Mpa。

7.权利要求1-6任一所述的制作方法制得的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布。

8.权利要求7所述的高保湿抗蓝光防辐射面膜基布所制备的面膜。