[发明专利]具有消耗品识别的等离子处理系统

说明书

一种等离子处理系统包括炬，该炬具有消耗品。气体压力调节器包括输入压力传感器，该输入压力传感器被配置成用于感测该气体压力调节器的输入压力。气体导管将气体从该气体压力调节器供应至该炬。控制器被可操作地连接至该气体压力调节器，以从该输入压力传感器接收输入压力信号并且向该气体压力调节器提供控制信号以控制该气体压力调节器的操作并设定该气体压力调节器的输出压力。该控制器被配置成基于该气体压力调节器的输入压力和提供至该气体压力调节器的控制信号二者来识别消耗品。

发明背景

技术领域

本发明的实施例涉及采用炬的等离子处理系统，炬在其内具有消耗品。

背景技术

等离子炬可以用于在工件上进行等离子处理操作，例如切割或熔刮操作。这些炬包括可以在使用一段时间之后或者为使得消耗品的安培额定值与有待进行的等离子处理相匹配而进行更换的多种不同的消耗品。实例消耗品包括电极、涡流环、喷嘴、固持帽、和防护帽。消耗品通常成包括这些消耗品中的两个或两个以上的组地安装。例如，更换用电极、涡流环、以及喷嘴(所有这些都具有相同的安培额定值)可能一起被同时安装在炬上。

单个炬可以利用具有不同安培额定值(诸如50A、100A等)的消耗品。如果在较高安培值等离子处理中使用具有过低安培额定值的消耗品，则可能损坏消耗品并可能损坏炬，从而导致增加的费用和停机时间。因此，用来检测消耗品针对等离子操作恰当地还是不恰当地确定大小的能力将是有益的。

发明内容

下面的概述呈现了简化的概述，以提供对本文所讨论的装置、系统和/或方法的一些方面的基本理解。本概述不是本文所讨论的装置、系统和/或方法的广泛的综述。其并不旨在识别关键的元件或划定这类装置、系统和/或方法的范围。其唯一的目的是以简化的形式呈现一些概念，作为稍后呈现的更详细的说明的序言。

根据本发明的一方面，提供一种等离子处理系统。等离子处理系统包括炬，并且炬包括消耗品。气体压力调节器包括输入压力传感器，输入压力传感器被配置成用于感测气体压力调节器的输入压力。气体导管将气体从气体压力调节器供应至炬。控制器被可操作地连接至气体压力调节器，以从输入压力传感器接收输入压力信号并且向气体压力调节器提供控制信号以控制气体压力调节器的操作并设定气体压力调节器的输出压力。控制器被配置成基于气体压力调节器的输入压力和提供至气体压力调节器的控制信号二者来识别消耗品。等离子处理系统可以包括存储器，存储器是控制器可访问的，其中，存储器存储气体压力调节器的输入压力与所述位置信号的相应的位置信号水平之间的相关性。在某些实施例中，气体压力调节器可以包括比例阀，控制信号是比例阀的位置信号。等离子处理系统可以进一步包括输出压力传感器，输出压力传感器在气体压力调节器下游、并且被配置成用于感测气体压力调节器的输出压力，其中，控制器被可操作地连接至输出压力传感器，以从输出压力传感器接收输出压力信号，并且其中，控制器被配置成基于气体压力调节器的输入压力、被提供至气体压力调节器的控制信号、以及气体压力调节器的输出压力来识别消耗品。在某些实施例中，控制器执行比例积分微分(PID)控制例程以产生控制信号。等离子处理系统可以进一步包括用户接口，用户接口被可操作地连接至控制器，其中，当消耗品的安培额定值不与等离子处理操作的安培值水平相匹配时，用户接口显示警报消息。在某些实施例中，消耗品是涡流环，在某些实施例中，消耗品包括涡流环和喷嘴。在某些实施例中，被提供至气体压力调节器的控制信号具有占空比，并且控制器被配置成基于气体压力调节器的输入压力以及控制信号的占空比来识别消耗品。