[发明专利]具有类柱状晶的锆酸钆薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201811037999.1 | 申请日: | 2018-09-06 |
公开(公告)号: | CN109023300B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 刘斌;朱昌华;王多金;杨光;陈宏飞;高彦峰 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/48 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 柱状 锆酸钆 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种锆酸钆薄膜的制备方法,其特征在于,所述锆酸钆薄膜的形貌为类柱状晶,所述锆酸钆薄膜中钆与锆原子比为(0.19~1.72):1;
所述的锆酸钆薄膜的制备方法包括:
(1)分别将钆的有机盐和锆的有机盐加热至250~300℃和320~380℃,得到前驱体气体a和前驱体气体b,所述钆的有机盐为:2、2、6、6四甲基3、5庚二酮钆和/或乙酰丙酮钆;所述锆的有机盐为:2、2、6、6四甲基3、5庚二酮锆和/或乙酰丙酮锆;
(2)通入第一载气与前驱体气体a形成混合气体A,通入第二载气与前驱体气体b形成混合气体B;
(3)再将混合气体A和混合气体B混合后再与反应气体混合,得到混合气体C;
(4)将置于反应腔体内的反应基片升温至700~1000℃并进行激光辐照,然后将混合气体C通过喷头喷向反应基片开始反应10~20分钟,得到所述锆酸钆薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述锆酸钆薄膜的热导率为0.92~0.96 W/(m•K)。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述钆的有机盐和锆的有机盐的摩尔比为(0.2~1.4):1。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述钆的有机盐和锆的有机盐的摩尔比为(0.5~1.4):1。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述加热的升温速率为10~15℃/分钟。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一载气为Ar气,流量为0~50ml/分钟;所述第二载气为Ar气,流量为10~50 ml/分钟。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述混合气体A和混合气体B的总流量为40~80ml/分钟。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述混合气体A和混合气体B的总流量为60ml/分钟。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述反应气体为O2,流量为160~190ml/分钟。
10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述激光辐照的功率为0~160 W/cm2;所述反应腔体的总压为700~1000 Pa。
11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,所述激光辐照的功率为40~120 W/cm2。
12.根据权利要求1-11中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述喷头和反应基片的距离为20~40 mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的