[发明专利]一种基于器官芯片的人早期胎盘发育模型建立方法有效

专利信息
申请号: 201811041005.3 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN110885781B 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 秦建华;朱玉娟;王慧 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C12N5/073 分类号: C12N5/073
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 郑虹
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 器官 芯片 早期 胎盘 发育 模型 建立 方法
【权利要求书】:

1.一种基于器官芯片的人早期胎盘发育模型建立方法,其特征在于:采用了一种三维基质材料,即人工基底膜Matrigel,按照以下步骤进行:

孔板修饰与人多能干细胞接种培养

先用人工基底膜修饰6孔板并放于4°冰箱4小时-7天,之后放入37°培养箱20-50min,用细胞消化液室温消化;用细胞刮板刮下细胞团,600r离心1-3min,细胞用含Y27632 的mTeSR1培养基重悬使细胞为小团块后接种于已修饰好的6孔板,37°培养1-4h后将培养液更换为不含Y27632 的mTeSR1培养基培养;

细胞消化并接种于三维基质中

待hPSC细胞生长为70%-90%后用消化液室温消化,用细胞刮板刮下细胞团,离心600r1-3min,将上清液体吸走,用含BMP4的诱导hPSC分化的培养基将matrigel稀释到一定比例后将细胞重悬得到合适的接种密度并接种,37°培养箱放置20-40min使悬有细胞的matrigel固化,之后仍为含BMP4的诱导hPSC分化的培养基;

人早期胎盘发育模型的建立

接以上步骤(2)每天更换培养基,培养基为步骤(2)中含BMP4的诱导hPSC分化的培养基,模型建立若干天;

于步骤(1)所述人工基底膜修饰6孔板具体为:将人工基底膜稀释500-1000倍,每孔1.5ml稀释液,放于4°冰箱4小时-7天;

所述含Y27632 的mTeSR1培养基中,Y27632 的浓度范围为1-100 mM;

步骤(2)所述matrigel稀释具体为培养基:matrigel的体积比为0-3:1,细胞接种密度为1×104-1×1010 cells/ml;步骤(2)所述含BMP4的诱导hPSC分化的培养基成分为:体积浓度96%的DMED/F12、体积浓度1 %的双抗、体积浓度1%的谷氨酰胺、体积浓度1%的非必须氨基酸(MEMNEAA)、体积浓度1 %的ITS、100 ng/ml的肝素、10 ng/ml的 BMP4,由此配置的每50ml培养基中添加1gBSA,溶解后即为含BMP4的诱导hPSC分化的培养基;

步骤(3)所述模型建立时间范围为4-12天;

该模型用于细胞形态的表征,包括hPSC细胞向滋养层细胞分化情况、融合型滋养层细胞、侵袭型滋养层细胞细胞类型的表征,与2D条件下hPSC诱导分化的表征。

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