[发明专利]微球涂层系统

说明书

本发明提供了一种微球涂层系统，其包括有公转盘以及自转盘，自转盘安装在公转盘上，自转盘的转动轴线与公转盘的中轴线偏心设置，自转盘用于安装石英盘。该反弹盘装置在使用过程中转动的线路多样化，进而使得微球在涂层过程中转动更加合理，提高微球涂层的均匀性。

技术领域

本发明涉及激光惯性约束聚变制靶设备领域，具体而言，涉及一种反弹盘装置以及微球涂层系统。

背景技术

在激光惯性约束聚变(ICF：inertial confinement fusion)制靶过程中，微球常作为目标靶丸，用于各种物理参数的测定，如烧蚀速率，RT不稳定性增长，辐射不透明度和压缩比测定等。因此，各种微球的制备在ICF领域中举足轻重，备受关注。

微球制备常使用物理气相沉积涂层方法，需要在真空室内进行。其中反弹盘是微球涂层的核心组件。以磁控溅射为例，靶枪(安装靶材)固定在真空室顶部，反弹盘安装在靶枪焦点位置，原子束流源源不断从靶材表面喷射出来，飞向石英盘。石英盘固定在旋转电机顶端，里盛装一定数量微球，在电机的带动下，激励盘内微球随机滚动，这样能够保障微球表面均匀涂层。

发明人在研究中发现，传统的反弹盘装置在使用过程中至少存在如下缺点：

在涂层过程中通过电机的转动带动石英盘转动，进而带动微球在石英盘中运动，微球运动比较单一，微球表面的涂层不均匀；

此外，反弹盘装置上的石英盘在使用一段时间后会出现石英盘内表面损伤，此时，需要打开真空室进行石英盘的更换，这样的操作方式，破坏了真空环境，且更换费时费力，降低了效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种反弹盘装置，以改善传统的微球涂层过程中涂层不均匀的问题。

本发明的目的在于提供一种微球涂层系统，以改善传统的微球涂层过程中涂层不均匀以及石英盘更换不便的问题。

本发明的实施例是这样实现的：

基于上述第一目的，本发明提供了一种反弹盘装置，其包括有：

公转盘，

自转盘，所述自转盘安装在所述公转盘上，所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的中轴线偏心设置，所述自转盘用于安装石英盘。

在本发明较佳的实施例中，所述自转盘设置有多个，多个所述自转盘围绕所述公转盘的中轴线间隔排布。

在本发明较佳的实施例中，至少一个所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的转动轴线倾斜设置。

在本发明较佳的实施例中，所述公转盘的中部安装有中转轴，所述中转轴与所述公转盘之间通过第一轴承连接，所述自转盘通过第二轴承安装在所述公转盘上。

在本发明较佳的实施例中，所述自转盘为惯性轮。

基于上述第二目的，本发明提供了一种微球涂层系统，包括呈真空状态的镀膜室、石英盘、驱动件以及所述的反弹盘装置，其中：

所述石英盘安装在所述自转盘上，所述石英盘与所述自转盘一一对应，

所述驱动件驱动连接所述公转盘，用于驱使所述公转盘转动，所述驱动件、公转盘、自转盘以及石英盘位于所述镀膜室内。

在本发明较佳的实施例中，所述微球涂层系统还包括预处理室以及输送组件，所述预处理室连通所述镀膜室，所述预处理室和镀膜室之间设置有开关阀；所述输送组件包括承载件、磁力传样杆以及样品托盘，所述样品托盘安装在所述磁力传样杆的端部，所述磁力传样杆安装在所述承载件上，所述样品托盘在所述磁力传样杆的带动下在所述预处理室与所述镀膜室之间往复运动，所述驱动件驱动连接所述承载件，所述公转盘安装在所述样品托盘上。

在本发明较佳的实施例中，所述公转盘与所述样品托盘通过螺钉连接。