[发明专利]一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的装置及方法在审

专利信息
申请号: 201811047970.1 申请日: 2018-09-10
公开(公告)号: CN109127180A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 阎文博;梁超;昝知韬;李菲菲;任满意 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: B05B5/08 分类号: B05B5/08;B05B5/025;B05B13/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300401 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 铌酸锂晶片 喷射 核心装置 石英晶片 激光器 溶胶液 可控 快门 溶胶凝胶法制 半透半反镜 带阻滤光片 薄膜制备 背景光源 化学检测 平行对称 生物医疗 位置可控 物镜 协同 配合
【权利要求书】:

1.一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的装置,其特征在于:按激光器1、快门2、半透半反镜5、物镜6、铌酸锂晶片7、石英晶片8的顺序形成喷射光路,按背景光源9、铌酸锂晶片7、物镜6、半透半反镜5、带阻滤光片4、CCD相机3的顺序形成实时观测光路,通过两条部分重合的光路实现溶胶的喷射和实时观测。

2.根据权利要求1所述一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的装置,其特征在于:所述铌酸锂晶片与所述石英晶片形成的上下平行结构作为核心装置,所述铌酸锂晶片与所述石英晶片分别固定在两个三轴组合移动平移台上,重点在于两晶片能够分别实现三维空间的运动。

3.一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的方法,其特征在于:通过激光照射铌酸锂晶片产生的非均匀电场,使位于石英晶片上的待喷射溶胶产生类似于泰勒锥状形变,进而产生微量溶胶液滴的喷射。

4.根据权利要求3所述的一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的方法,其特征在于:所述溶胶通过溶胶凝胶法制备,所述溶胶不同于油、水、聚二甲基硅氧烷这些单组份物质,属于多组分物质。

5.一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的方法,其特征在于:三轴组合移动平台、激光器、快门开关三者协同配合实现待喷射溶胶喷射到铌酸锂晶片二维平面的任意位置,同时喷射的溶胶液滴大小可控。

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